[发明专利]半导体器件有效
| 申请号: | 200910138719.0 | 申请日: | 2009-02-06 |
| 公开(公告)号: | CN101540321A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
| 发明(设计)人: | 吉川功;山崎智幸;小野泽勇一 | 申请(专利权)人: | 富士电机电子技术株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L29/06;H01L29/861;H01L29/36 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 张 鑫 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体器件 | ||
1.一种半导体器件,其装备有主要半导体元件和用于检测所述主要半导体 元件的温度的温度检测元件,包括:
第一导电类型的第一半导体层,其具有用以提供所述主要半导体元件的表 面结构的主表面;
第二导电类型的第二半导体区,其与所述主要半导体元件的表面结构隔开 并且选择性地位于所述第一半导体层的主表面中;
第一导电类型的第三半导体区,其位于所述第二半导体区中;
第二导电类型的第四半导体区,其位于所述第三半导体区中;以及
第一导电类型的第五半导体区,其位于所述第四半导体区中;其中:
所述第三半导体区与所述第四半导体区电连接;以及
所述温度检测单元形成为二极管,其将所述第四半导体区用作阳极和阴极 中的一个,并且将所述第五半导体区用作所述阳极和阴极中的另一个。
2.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述第二半导体区与 所述主要半导体元件的电极电绝缘。
3.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述第二半导体区连 接到所述主要半导体元件的接地电极。
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的半导体器件,其特征在于,所 述第二半导体区被沟槽围绕。
5.一种半导体器件,其装备有主要半导体元件和用于检测所述主要半导体 元件的温度的温度检测元件,包括:
第一导电类型的第一半导体层,其形成所述主要半导体元件;
第二导电类型的第二半导体区,其位于所述第一半导体层中;
第一导电类型的第三半导体区,其位于所述第二半导体区中;以及
第二导电类型的第四半导体区,其位于所述第三半导体区中;其中:
温度检测单元位于通过PN结与所述第一半导体层隔离的一个区中;以及
所述温度检测单元形成为二极管,其将所述第三半导体区用作阴极和阳极 中的一个,并且将所述第四半导体区用作所述阴极和阳极中的另一个。
6.根据权利要求5所述的半导体器件,其特征在于,所述第二半导体区电 浮置。
7.根据权利要求6所述的半导体器件,其特征在于,进一步包括:第二导 电类型的第五半导体区,其围绕所述第三半导体区的一侧并且具有比第二半导 体区更高的浓度。
8.根据权利要求5所述的半导体器件,其特征在于,所述第二半导体区具 有与所述主要半导体元件发射极和源极中的一个的电势相同的电势。
9.根据权利要求5所述的半导体器件,其特征在于,所述第三半导体区被 比所述第三半导体区更深的沟槽围绕。
10.根据权利要求9所述的半导体器件,其特征在于,导体通过绝缘膜嵌 入沟槽中,以使得所述导体具有与所述阴极相同的电势。
11.根据权利要求5至10中的任意一项所述的半导体器件,其特征在于, 所述阳极和阴极被空穴抽取区所围绕。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





