[发明专利]抗反射材料、光学元件、显示器件及压模的制造方法和使用了压模的抗反射材料的制造方法

权利要求书

1.一种抗反射材料，在表面上具有微细凹凸结构，其特征在于，

上述微细凹凸结构包含多个微细凸部，

当假定上述多个微细凸部之中相互邻接的任意的凸部之间的距离为P、入射光的最短波长为λ_min、上述入射光的最大入射角为θi_max、入射介质的折射率为ni、上述抗反射材料的折射率为ns时，满足下式(1’)

P/λ_min＜1/(ni+ni·sinθi_max)  ...(1’)

当假定上述凹凸结构的高度方向的坐标轴为h轴、上述凹凸结构中的凸部的最高点为h＝d、上述凹凸结构中的凹部的最低点为h＝0时，用h的函数表示的有效折射率n_eff(h)满足如下关系(1b)

n_eff(h＝0)处于ns±7％的范围内，并且n_eff(h＝d)处于ni±7％的范围内       ...(1b)

上述有效折射率n_eff(h)与用下式(1c)

N_eff(h)＝{(n_eff(h＝d)-n_eff(h＝0))/d}×h+n_eff(h＝0)...(1c)

表示的函数N_eff(h)至少在一点上相交，并进一步满足如下关系：

|N_eff(h)-n_eff(h)|≤|n_eff(h＝d)-n_eff(h＝0)|×0.2。

2.如权利要求1所述的抗反射材料，其特征在于，

上述式(1’)还满足下式(2’)

P/λ_min＜1/(max{ni，ns}+ni·sinθi_max)     ...(2’)

式中，max{ni，ns}意指ni和ns之中折射率大的一方。

3.如权利要求1所述的抗反射材料，其特征在于，

上述有效折射率n_eff(h)的微分系数(dn_eff(h)/dh)还满足如下关系：

d_neff(h)/dh处于{(n_eff(h＝d)-n_eff(h＝0))/d}±20％的范围内。

4.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射材料，其特征在于，

当假定上述凹凸结构的高度方向的坐标轴为h轴、上述凹凸结构中的凸部的最高点为h＝d、上述凹凸结构中的凹部的最低点为h＝0时，上述凸部与h＝d的xy面大致点相接，上述凹部与h＝0的xy面大致点相接。

5.如权利要求4所述的抗反射材料，其特征在于，

上述凹部相对于h＝d/2的xy面与上述凸部对称地配置。

6.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射材料，其特征在于，

上述凹凸结构的上述凸部具有台阶状的侧面。

7.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射材料，其特征在于，

上述多个微细凸部包含：在周围形成了3个以上6个以下的微细凹部的微细凸部。

8.如权利要求1至3中任意一项所述的抗反射材料，其特征在于，

上述凹部具有尖状。

9.一种光学元件，包括权利要求1至3的任一项中所述的抗反射材料。

10.一种显示器件，包括权利要求9所述的光学元件。