[发明专利]微珠制备方法以及微珠无效

专利信息
申请号: 200910137291.8 申请日: 2009-05-04
公开(公告)号: CN101570794A 公开(公告)日: 2009-11-04
发明(设计)人: 町田贤三;岸井典之;市村真理;田中正信 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: C12Q1/68 分类号: C12Q1/68;G01N33/68;G01N33/53;G01N21/64;G01N27/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制备 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种微珠制备方法,包括以下步骤:

通过光刻将已经在基板上形成的薄膜图案化成预定形状 的微珠区域;

将预定物质通过点样方法固定在由此图案化的微珠区域 上;以及

从所述基板上剥离具有固定在其上的所述物质的由此图 案化的微珠区域,

其中,所述微珠具有设置有彼此相对并基本上彼此平行 延伸的两个面的三维形状,并且所述预定物质固定在所述两个 面中的仅一个上,

其中,在固定步骤之前,对由此图案化的微珠区域之间 的基板区域进行防水处理。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,在将在剥离步骤中能够物 理或化学蚀刻的牺牲层堆叠在所述基板上之后,进行所述薄膜 的形成。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述固定步骤通过在所述 微珠区域上的所述物质的化学合成来进行。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,将选自预定序列的核酸、 预定序列的肽、或糖链中的生物大分子固定作为所述物质。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述薄膜由光致抗蚀剂或 二氧化硅形成。

6.根据权利要求2所述的方法,其中,所述牺牲层由氟化有机材 料层形成。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,在所述剥离步骤中,通过 使所述氟化有机材料层升华而从所述基板上剥离所述由此图 案化的微珠区域。

8.根据权利要求6所述的方法,其中,在所述剥离步骤中,通过 用氟化溶剂溶解所述氟化有机材料层而从所述基板上剥离所 述由此图案化的微珠区域。

9.根据权利要求2所述的方法,其中,所述牺牲层通过用偶联剂 对所述基板的表面进行处理而形成。

10.根据权利要求2所述的方法,其中,所述牺牲层由金属氧化层 形成。

11.通过微珠制备方法获得的微珠,所述方法包括以下步骤:

通过光刻将已经形成在基板上的薄膜图案化成预定形状 的微珠区域;

将预定物质通过点样方法固定在由此图案化的微珠区域 上;以及

从所述基板上剥离具有固定在其上的所述物质的由此图 案化的微珠区域,

其中,所述微珠具有设置有彼此相对并基本上彼此平行 延伸的两个面的三维形状,并且所述预定物质固定在所述两个 面中的仅一个上,

其中,在固定步骤之前,对由此图案化的微珠区域之间 的基板区域进行防水处理。

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