[发明专利]一种宽频带行波管的螺旋线慢波系统制作方法无效
| 申请号: | 200910135708.7 | 申请日: | 2009-04-27 |
| 公开(公告)号: | CN101533747A | 公开(公告)日: | 2009-09-16 |
| 发明(设计)人: | 吴华夏;贺兆昌;高红梅;张文丙;雷声媛;法朋亭 | 申请(专利权)人: | 安徽华东光电技术研究所 |
| 主分类号: | H01J9/00 | 分类号: | H01J9/00;H01J9/24;H01J23/26 |
| 代理公司: | 信息产业部电子专利中心 | 代理人: | 李勤媛 |
| 地址: | 241002安徽省芜*** | 国省代码: | 安徽;34 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 宽频 行波 螺旋线 系统 制作方法 | ||
技术领域
本发明属于微波电子器件领域,特别涉及到微波电子器件中一种宽频带行波管的螺旋线慢波系统的制作方法。
背景技术
宽频带行波管螺旋线慢波系统的结构及工艺制作技术应能满足不同的性能指标需求。宽频带行波管需要很好的色散特性,带宽以及输出参数,这些都在很大程度上依赖于慢波系统的结构和制作工艺。为了实现行波管宽频带色散特性和输出参数,有必要对慢波系统的结构和制作工艺进行合理选择。一般在螺旋线行波管慢波系统的制作中,螺旋线和管壳的制作误差,苛刻要求,相关的一系列复杂工艺过程,在一定程度上影响着慢波系统的性能,夹持杆的截面尺寸也直接影响着慢波系统的热散能力。我们在慢波系统中采用带有纵向槽的金属负载,使螺旋线和管壳间的缝隙值只取决于夹持杆的高度和金属负载上槽的深度,而不直接依赖于慢波系统制作中螺旋线和管壳的制作误差,这样可以大大地改进慢波系统中螺旋线与金属负载之间缝隙的制作精度,从而消除慢波系统制作中螺旋线及管壳的制作误差的影响。但在慢波系统中加入金属负载的同时也不可避免地引进了一些矛盾之处,如负载过大,行波管色散特性变平坦,但其增益和输出功率却下降很多。金属负载的材料,形状及其在慢波系统中的位置都对行波管慢波系统的制作有着很大的影响。因此,要寻求螺旋线慢波系统制造中金属负载的最佳形状和位置
发明内容
本发明所要解决的问题是针对以往慢波系统制作过程中对螺旋线及管壳配合的要求很苛刻,通过利用夹持杆的高度和金属负载上纵向槽的深度来精确控制负载组件的高度,从而提高慢波系统在螺旋线与金属负载之间缝隙的制作精度,本发明的目的是提供一种宽频带行波管的螺旋线慢波系统制作方法,以消除慢波系统对螺旋线及管壳的制作精度的依赖,简化慢波系统复杂的制作工艺。
本发明的目的是采用以下技术方案来完成的,一种宽频带行波管螺旋线慢波系统制作方法,包含所用螺旋线的绕制成型、介质夹持杆在金属负载纵向槽中固定成金属负载组装件,其特征在于,按照以下步骤进行慢波系统的装配:a.将螺旋线、三个金属负载组件以及三个用于装配的工艺芯杆,分别在两端处用定位夹具固定成一个总装组件;b.将总装组件插入到用于装配的一小段金属管壳上;所述一小段金属管壳,是从所使用的带有导向道的金属管壳上切割下来的,其长度为所述宽频带行波管总管壳长度的1/10;c.移动该小段金属管壳,将总装好的组件沿金属管壳导向道装入行波管的总金属管壳中去,完成之后将小段金属管壳退去。所述总金属管壳内径比其内部总装组件的外径大0.003mm。
本发明的有益效果是:
(1)由负载组件的制作方法可知,此情况下螺旋线与金属负载组件之间缝隙值只取决于夹持杆的高度和金属负载上槽的深度,而不依赖于慢波系统制作中螺旋线和管壳的制作误差;因此可以极大地提高螺旋线与负载组件之间缝隙的制作精度(公差3-5μ)。
(2)与其他工艺方法(例如夹持杆金属化,花样铣加工,夹持杆相对于螺旋线的匝定位及其钎焊等)相比,本发明制作过程劳动量小,而且可以避免上述一系列复杂的工艺操作。
(3)由于可以使用更小截面尺寸的夹持杆,从而能够降低高频损耗,并且依靠金属负载的接触,可提高整个慢波系统的散热能力。
(4)也可以不需要在整个慢波长度上装一个完整长度的夹持杆,而是用较短的夹持杆累积到金属负载的槽上,从而减低了易碎的夹持杆的压力,降低了零件的淘汰率。
附图说明
图1为螺旋线慢波系统截面图;
图2为矫形后的金属负载截面图;
图3为成型的金属负载组件截面图;
图4为螺旋线慢波系统总装组件截面图;
具体实施方式
参照图1,表示螺旋线慢波系统截面图,图中1为金属负载,金属负载纵向槽1-1中插有夹持杆2,中部为螺旋线3,最外面是总金属管壳4,在总金属管壳内部有突起5。
参照图2、图3,表示矫形成型后的金属负载截面图,图中金属负载上的纵向槽为1-1,槽的深度为a,其内固定的夹持杆高度为b。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽华东光电技术研究所,未经安徽华东光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910135708.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





