[发明专利]一种癌症筛检的方法有效

专利信息
申请号: 200910135501.X 申请日: 2009-04-17
公开(公告)号: CN101864480A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 赖鸿政 申请(专利权)人: 赖鸿政
主分类号: C12Q1/68 分类号: C12Q1/68
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 癌症 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种癌症筛检的方法,特别涉及一种以甲基化DNA作为生物标记的癌症筛检的方法。

背景技术

子宫颈癌是全球及台湾女性主要的死因之一,根据2002年世界卫生组织(WHO)的统计,子宫颈癌为全球女性癌症死因的第二位,仅次于乳癌;定期接受子宫颈癌筛检是预防子宫颈癌的最佳方法,习用子宫颈癌筛检的方式主要有两种,一是最常见的子宫颈抹片检查(Pap smear),另一则为人类乳突病毒检验(HPV testing);子宫颈抹片检查是取出子宫颈部的分泌物,以显微镜观察其中脱落的上皮细胞中,是否有癌病变产生,以早期侦测子宫颈癌;而HPV检验则是以聚合酶连锁反应(polymerase chain reaction,RT-PCR)或Hybrid Capture的方式检查样本中是否存在有人类乳突病毒(human papilloma virus,HPV)病毒的存在。

然而,由于子宫颈抹片检查(Pap smear)需要靠医师取样、检验师/病理医师判读抹片,除了容易产生高伪阴性率(High false negative rate)而延迟癌前病变的诊断与治疗之外,再者,所需的人力素质与成本太高,这对许多发展中的国家来说,有推广上的困难;另一方面,人类乳突病毒检验(HPV testing)虽具有高敏感度,但却容易造成高伪阳性率(High false positive rate),不仅让病患白白担心,也会浪费许多医疗资源在伪阳性患者的追踪检查上;因此,如何提高子宫颈癌检验方法的准确性及方便性,是推广子宫颈癌检验的重要课题之一。

基因的缺失(genomic deletions)被认为是肿瘤形成的重要因素,长久以来,我们都习惯了基因组中的编码是仰赖ATCG四个碱基排列的观念,Knudson早在1975年即提出双重受创理论(two-hit theory),指出一些同源肿瘤抑制基因伴随的突变或缺失可能造成或易造成癌症的发生;然而,其他影响表现型(phenotype)的讯息可能存于被修饰过的碱基5-甲基胞嘧啶(5-methylcytosine)中,5-甲基胞嘧啶被发现存在于哺乳类动物细胞内的回文序列5’-CpG-3’中,在哺乳类动物细胞内除了一些被称为“CpG岛”(CpG islands,CGIs)的区域之外,大多数的CpG双核苷酸对都被甲基化,CpG岛是指在大约1000个碱基对(1Kb)的区域内含有大量的GC-以及CpG-,通常位于基因的附近,且在广泛表现的基因的启动子附近被发现。胞嘧啶的甲基化发生在DNA合成后,自一甲基捐赠者s-腺核苷甲硫胺酸(S-adenosylmethionine,SAM)将一甲基经酵素转移到胞嘧啶第5个碳的位置上,该酵素反应是由DNA甲基转移酶(DNA methyltransferase,DNMTs)执行,DNMT1是哺乳类动物主要的甲基转移酶,是负责将半甲基化位置复制后修复(post-replicative restoration)为全甲基化,被称为维持甲基化(maintenancemethylation);反之,DNMT3A及DNMT3B则被认为主要负责甲基化新的位置,进行一种称为重新甲基化(de novo methylation)的步骤。

CpG双核苷酸对甲基化的遗失(loss of methylation),意即一般的低度甲基化,是癌细胞内的第一个超遗传异常(epigenetic abnormality);然而,在过去几年内的研究却显示,特定位置(例如:一些肿瘤抑制基因)的高度甲基化(site-specific hypermethylation)与其功能的丧失有关,这可能会在癌症生成时提供选择优势(selective advantages);在启动子区域上CpG岛的高度甲基化,可以借由组蛋白修饰(histone modification)伴随接续而来的基因默化现象(genesilencing),来引起染色质改造(chromatin remodeling);除了染色体缺失及基因突变之外,经由启动子的高度甲基化所造成肿瘤抑制基因的超遗传默化现象(epigenetic silencing)也常见于人类癌症中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赖鸿政,未经赖鸿政许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910135501.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top