[发明专利]光刻装置及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

用于保持构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给辐射光束的截面 赋予图案；

用于保持基底的基底台；

用于将带图案的光束投射到所述基底的目标部分上的投影系统；以及

用于向基底的局部区域、基底台或其两者供应液体的供液系统，以至 少部分地填充所述投影系统与所述基底、所述基底台或其两者之间的空间，

其中所述基底台包括用于收集液体的隔板，所述隔板环绕所述基底并 与所述基底分隔开，且所述隔板位于环绕所述基底外围边缘的排水沟的径 向外侧，所述排水沟设置在基底台中。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述隔板包括伸出到所述基底台 上表面之外的突出物。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述隔板包括凹进到所述基 底台的上表面中的槽或其中所述隔板环绕安装在基底台的上表面上的至少 一个传感器。

4.根据权利要求3所述的装置，其中将所述槽的尺寸设置成能够在毛 细管作用下沿着所述槽输送所述液体。

5.根据权利要求3所述的装置，其中所述基底台进一步包括室，所述 室经由所述槽与所述上表面发生液体接触。

6.根据权利要求2所述的装置，其中所述隔板包括凹进到所述基底台 的上表面中的槽，所述基底台进一步包括室，所述室经由所述槽与所述上 表面发生液体接触，且所述室至少部分地形成在所述突出物中。

7.根据权利要求1或2所述的装置，进一步包括用于从所述隔板排出 液体的低压源。

8.根据权利要求1或2所述的装置，进一步包括用于在所述隔板中产 生表面声波的表面声波发生器，以有利于沿所述隔板输送液体。

9.一种光刻装置，包括：

用于保持构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给辐射光束的截面 赋予图案；

用于保持基底的基底台，所述基底台包括用于收集液体的隔板，所述 隔板环绕所述基底并与所述基底分隔开；

用于将带图案的光束投射到所述基底的目标部分上的投影系统；

用于向所述基底的局部区域、所述基底台或其两者供应液体的供液系 统，以至少部分地填充所述投影系统与所述基底、所述基底台或其两者之 间的空间；以及

用于在所述隔板中产生表面声波的表面声波发生器，以有利于沿所述 隔板输送液体。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述表面声波发生器包括压电 致动器。

11.一种光刻装置，包括：

用于保持构图部件的支撑结构，所述构图部件用于给辐射光束的截面 赋予图案；

用于保持基底的基底台；

用于将带图案的光束投射到所述基底的目标部分上的投影系统；

用于向所述基底的局部区域、所述基底台或其两者供应液体的供液系 统，以至少部分地填充所述投影系统与所述基底、所述基底台或其两者之 间的空间；以及

其中所述基底台包括用于收集液体的隔板，所述隔板环绕所述基底并 与所述基底分隔开，且所述隔板另外环绕安装在所述基底台的上表面上的 至少一个传感器和/或圆盖盘，所述圆盖盘与供液系统的下侧相连以使供 液系统保持工作状态以在基底交换过程中降低液体损耗。

12.根据权利要求11所述的装置，其中所述隔板包括凹进到所述基底 台的所述上表面中的槽。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述隔板包括位于所述隔板相 对的转角处的两个收集凹进部分。

14.根据权利要求13所述的装置，其中所述收集凹进部分在它们最深 的凹进点处具有出口。

15.根据权利要求14所述的装置，其中所述槽沿其长度稍微倾斜，以 使得所述槽中的任何液体能够在重力作用下朝所述收集凹进部分流动。

16.根据权利要求15所述的装置，其中所述出口连接到低压源。