[发明专利]光电转换装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910133277.0 申请日: 2009-03-27
公开(公告)号: CN101546794A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 山崎舜平;下村明久 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 汤春龙;徐予红
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光电 转换 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及使用单晶半导体或多晶半导体的光电转换装置及其 制造方法。

背景技术

全球变暖处于严重的情势,而其对策是全世界需要共同研究的难 题。被认为是全球变暖的主要因素的二氧化碳等的温室效应气体的大 多数是通过消费石油、煤、天然气等的能源而排出。然而,这些能源 对产业社会而言必不少,因而不能简单地缩减能源消费量。因此,二 氧化碳的排出量少并对环境的影响小的太阳能发电作为下一代的能 源引人注目。

在太阳能发电中多使用利用半导体特性将光能转换成电能的硅 系光电转换装置。以太阳电池为代表的硅系光电转换装置已经在市场 出售,也由于世界各国政府的太阳电池支持政策的推动,其生产量逐 年增加。例如,2006年的全世界太阳电池的生产量是2521MW,以超 过年率40%的气势增加。

但是,在太阳能发电的普及上有待处理的各种障碍堆积如山,其 中之一就是太阳能发电的成本比已知的商业电力高。因此,太阳电池 的高效率化、制造成本等的成本的缩减等是缩减太阳电池发电成本的 必要条件。

另外,太阳能发电的普及的当前的障碍是硅的供给不足。受到半 导体不景气的影响而处于供给过剩的状态下的硅的供求平衡随着半 导体(LSI)产业的恢复以及太阳电池市场的急剧成长,从2005年度 左右一转陷入供给不足状态。虽然世界的各个硅供给制造的大公司试 图增强硅生产能力,但是需求的扩展超过了供给。

在硅材料不足越来越明显化中,薄膜型硅系列光电转换装置引人 注目。在薄膜型硅系列光电转换装置中,在支撑衬底上设置薄膜硅, 并且将该薄膜硅用作光电转换层。相对于此,在现有主流的大块型硅 系光电转换装置中,具有比其所需要厚度厚几十倍以上的厚度的单晶 硅衬底或多晶硅衬底构成光电转换层的主要部分,而这很难说是有效 地使用了硅。极端而言,大部分的用于大块型硅系列光电转换装置的 单晶硅衬底或多晶硅衬底作为保持光电转换装置的形状的结构体发 挥其机能。因为薄膜型硅系列光电转换装置可以采用将硅只用于进行 光电转换的区域的结构,所以可以与大块型硅系列光电转换装置相比 大幅度地缩减硅的使用量。

然而,因为在薄膜型硅系列光电转换装置中一般通过利用化学或 物理的各种成长法而在支撑衬底上形成薄膜硅,所以与大块型相比其 光电转换效率低。因此,提出了对晶体半导体注入氢离子并且通过热 处理切断晶体半导体,而得到晶体半导体层的太阳电池的制造方法 (例如,参照专利文献1)。将以层状注入有预定的元素的晶体半导 体贴合到在形成有绝缘层的衬底上涂布有电极形成用膏上之后,以 300℃至500℃进行热处理而将晶体半导体密贴到电极。接着,通过 500℃至700℃的热处理在注入到晶体半导体的预定的元素的区域中 以层状形成空隙,并且通过热畸变并利用空隙来分割晶体半导体,而 在电极上得到晶体半导体层。进而,通过在其上形成非晶硅层而制造 串联型太阳电池。在该方式中,形成成为第一发电层的单晶硅太阳电 池元件。

[专利文献1]日本专利申请公开H10-335683号公报

若可以使用单晶硅作为晶体半导体而在电极上得到单晶硅层,则 可以期待高效率化。然而,在如上述专利文献1那样以电极形成用膏 为粘合剂贴合单晶硅衬底和别的衬底的方法中,粘合部的密贴度或用 作粘合剂的电极形成用膏的变质(粘合强度的降低)成为难题,而有 对完成的太阳电池的可靠性的忧虑。另外,也有因将其贴合到其他衬 底,而使制造工序复杂化,以及因进行贴合的衬底的性质而使处理温 度受到限制的忧虑。从而,有可能即使可以实现高效率化也有因制造 工序的复杂化等而产生的成本增多、生产率降低或不适于批量生产等 问题,其结果是使太阳能电能远不及现有的商用电力。

发明内容

鉴于上述问题,发明的目的之一在于提供以简便的工序制造具有 优越的光电转换特性的光电转换装置的方法。另外,发明的目的之一 在于提供有效地利用半导体材料等的资源的节省资源型光电转换装 置及其制造方法。另外,发明的目的之一在于提供以优越于光电转换 特性的太阳电池为代表的光电转换装置及其制造方法。

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