[发明专利]液晶显示元件的制造方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请基于2008年3月31日提交的在先申请(日本)专利申请2008-093156并且要求该优先权，其全部内容包括说明书、权利要求、附图及摘要都通过引用的方式并入于此。

技术领域

本发明涉及液晶显示元件的制造方法。

背景技术

在液晶显示元件的制造中，用于接合一对基板的密封件，通过在对分别形成在一对基板的内面上的取向膜(alignment film)进行了研磨处理之后，在某一个内面上，使用对非印刷区域进行掩模的网板和抵接在网板上并以一定方向移动的涂刷器(squeegee)的网板印刷来进行印刷。在这种情况下，在密封件的印刷中，取向膜的被研磨处理的面部分地被网板摩擦。

因此，例如在日本特许第2774714号公报中记载了下述液晶显示元件的制造方法：即，在对形成在一对基板的内面上的取向膜分别在以预定角度交叉的方向上进行研磨处理、使液晶层的液晶分子在一对基板间扭曲(twist)取向的TN型或STN型等的液晶显示元件的制造中，在相对于印刷密封件的基板上形成的取向膜的研磨方向以大于90°的角度交叉的方向上移动涂刷器来进行密封件的网板印刷，从而即使取向膜的被研磨处理的面部分地被网板摩擦，也不影响液晶分子的扭曲取向。

但是，在上述那样相对于取向膜的研磨方向以大于90°的角度交叉的方向上移动涂刷器来印刷密封件的现有的制造方法，在使液晶分子扭曲取向的液晶显示元件的制造中是有效的，但制造在平行方向上对一对基板的相互对置的内面上分别形成的取向膜进行研磨处理、使液晶层的液晶分子取向为分子长轴对齐取向膜的研磨方向的非扭曲取向型的液晶显示元件时，取向膜的研磨方向与被网板摩擦的方向的不同对液晶分子的取向造成影响，在液晶分子的取向上产生紊乱。

发明内容

本发明的目的在于提供一种液晶显示元件的制造方法，对于在一对基板相互对置的内面上分别形成的取向膜在实质平行的方向上进行研磨处理、使液晶层的液晶分子取向为分子长轴对齐取向膜的研磨方向的非扭曲取向型的液晶显示元件，能够抑制在液晶分子的取向上产生紊乱的情况。

本发明的液晶显示元件的制造方法具备以下工序：

基板准备工序，准备第一基板及第二基板；

取向膜形成工序，接下来，在上述第一基板的一个面和上述第二基板的一个面上分别形成取向膜；

研磨工序，接下来，对上述各取向膜的表面进行研磨处理；

密封件印刷工序，接下来，在上述第一基板的上述一个面上，对密封件进行网板印刷以包围显示区域；以及

基板接合工序，接下来，使上述第一基板及上述第二基板在上述第一基板的上述一个面与上述第二基板的上述一个面相对向的状态下重合，以使上述第一基板的上述取向膜的研磨方向与上述第二基板的上述取向膜的研磨方向相互平行，在通过上述密封件贴合上述第一基板和上述第二基板的状态下使上述密封件固化，从而通过上述密封件接合上述第一基板及上述第二基板；

在此，上述密封件印刷工序为：使抵接在网板上并以一定方向移动的涂刷器在与上述第一基板的上述一个面上形成的上述取向膜的研磨方向平行的方向上移动来进行印刷。

上述发明的优点将通过下面的记载得到进一步的阐明，而且一部分会在记载中变得明显或者在实施例中得以揭示。通过下面实际说明的手段和组合，将实现并获得本发明的优点。

附图说明

附图通过结合并构成说明书的一部分，说明本发明的实施方式，并与上述发明内容和下述具体实施方式一起说明本发明的原理。

图1是表示本发明的第一实施方式的、制造的液晶显示元件的俯视图。

图2是第一实施方式所涉及的液晶显示元件之中沿图3的II-II断开线的向视剖面图。

图3是第一实施方式所涉及的液晶显示元件的一个基板的一部分的放大俯视图。

图4是表示第一实施方式所涉及的形成液晶显示元件的一个像素的第一和第二电极的形状及液晶分子的取向状态的放大俯视图。

图5是第一实施方式所涉及的液晶显示元件的制造工序图。

图6A是表示第一实施方式所涉及的液晶显示元件的密封件的印刷方法的图。

图6B是表示第一实施方式所涉及的液晶显示元件的密封件的印刷方法的图。

图7A是表示本发明的第二实施方式所涉及的液晶显示元件的密封件的印刷方法的图。

图7B是表示本发明的第二实施方式所涉及的液晶显示元件的密封件的印刷方法的图。

具体实施方式

以下结合附图说明本发明的实施方式。

(第一实施方式)