[发明专利]荫罩式等离子体显示器

权利要求书

1.一种荫罩式等离子体显示器，它包括前基板(1)、汇流电极(2)、前基板介质层(8)、前基板MgO保护层(3)、后基板(6)、寻址电极(5)、后基板介质层(7)、后基板MgO保护层(4)和荫罩(15)，其特征是所述的荫罩(15)边缘设有荫罩电位引出结构(11)即网格孔像素区域以外设有荫罩电位引出结构(11)，所述的前基板(1)上设有接触电极块(9)、引出电极块(10)和平行电极(12)，接触电极块(9)和引出电极块(10)上不被前基板介质层(8)和前基板MgO保护层(3)覆盖，接触电极块(9)与荫罩(15)上的荫罩电位引出结构(11)相对应的安装在前基板(1)上，引出电极块(10)的一端通过平行电极(12)与接触电极块(9)相连，引出电极块(10)的另一端接地；所述的荫罩电位引出结构(11)包括壳体(13)和耳丝(14)，耳丝(14)在壳体(13)的内部，耳丝(14)的形状可以为脉冲方波形、三角波形或正弦波形；所述的接触电极块(9)和引出电极块(10)上不被前基板介质层(8)和前基板MgO保护层(3)覆盖的部分采用酸或酸的混合液腐蚀、机械打磨或贴附胶带辅助打磨的方法去除。

2.根据权利要求1所述的荫罩式等离子体显示器，其特征是所述的引出电极块(10)与接触电极块(9)的形状均可以为圆形、椭圆形、正方形、长方形或菱形。

3.根据权利要求1所述的荫罩式等离子体显示器，其特征是所述的酸为硝酸或盐酸。

4.根据权利要求1所述的荫罩式等离子体显示器，其特征是所述的机械打磨的方法要选择合适的钻头与合理的打磨角度，利用打磨机去除前基板的介质层(8)。

5.根据权利要求1所述的荫罩式等离子体显示器，其特征是所述的贴附胶带辅助打磨的方法是在接触电极块(9)上预贴具有一定黏度的胶带，制作前基板的介质层(8)后，撕除贴附的胶带，然后将撕除胶带的边缘部位打磨平整。