[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，向旋转的被处理基板的表面供给处理液， 使处理液扩展而形成处理膜，其特征在于，包括：

以水平姿势保持被处理基板的保持单元；

使被处理基板在水平面内旋转的旋转机构；

向被处理基板的表面供给处理液的处理液供给喷嘴；以及

收纳所述保持单元并且在底部与排气装置连接的处理罩，

所述处理罩具有：

外罩，其具有包围由所述保持单元保持的所述被处理基板的外侧 的外侧壁部；

内罩，其具有位于被处理基板的外周部下方的内侧壁部；

中间罩，其外周部固定在所述外罩的外侧壁部的内周面，且内周 部位于与被处理基板的外周边缘保持有间隙的位置，并且具有连通所 述外罩的上部与所述内罩的外侧的多个通气孔；

开闭部件，其开闭所述中间罩的通气孔；以及

开闭移动机构，其移动所述开闭部件以开闭所述通气孔，

在对被处理基板供给处理液时，利用所述开闭部件封闭所述通气 孔，阻断气流通过所述通气孔，在处理液供给后的处理膜形成时，利 用所述开闭部件打开所述通气孔，容许气流通过所述通气孔。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

所述通气孔以等间隔设置成同心圆形状。

3.如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述外罩包括上部罩体，该上部罩体具有构成所述外侧壁部的一 部分的可动外侧壁部，

所述开闭部件具有环形圆板状部件，该环形圆板状部件的外周部 固定在所述上部罩体的可动外侧壁部的内周面，内周部能够抵接在上 述中间罩上的相比通气孔的内周侧面上，

所述开闭移动机构具有升降移动所述上部罩体的升降机构。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：

所述开闭部件具有可挠性密封部件，该可挠性密封部件安装在其 内周部上，并且能够抵接在所述中间罩的上表面上。

5.如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述开闭部件具有能够开闭各个通气孔的上端开口部的多个棒状 部件和连结各个棒状部件的连结部件，

所述开闭移动机构具有升降所述连结部件的升降机构。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于：

所述棒状部件的下端封闭部具有能够插入上述通气孔内的狭小圆 锥面。

7.如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述外罩具有外装罩体，该外装罩体连通所述通气孔与所述外罩 的外方侧，并在其与外侧壁部之间设置环状进气口，

所述开闭部件具有能够开闭所述环状进气口的环状部件，

所述开闭移动机构具有升降移动所述环状部件的升降机构。

8.如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述多个通气孔形成相同的圆形。

9.如权利要求1或者2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述多个通气孔形成相同的椭圆形。