[发明专利]光波导有效
| 申请号： | 200910126377.0 | 申请日： | 2007-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101498813A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 邵鸣达;俞国庆;徐琴琴;王文龙;王蔚 | 申请（专利权）人： | 晶方半导体科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/10 | 分类号： | G02B6/10;G02B6/12;G02B6/13 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘诚午;李 丽 |
| 地址： | 215126江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 波导 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用半导体集成电路制造工艺制作的晶圆级光波导，包括基底和基底上的限制层，所述基底的材料为半导体材料，所述限制层的材料为硅、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅和硼磷硅酸盐玻璃中的一种，所述限制层中具有凹槽，凹槽两侧的端面为斜面，至少在所述斜面表面具有反射镜面层，所述光波导还包括旋涂形成在所述凹槽中的包层与芯层，所述包层包括位于芯层上表面的第一包层和位于芯层下表面的第二包层；所述第二包层位于所述基底和所述限制层之间，所述芯层和包层的材料为可旋涂高分子感光材料。
2.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述反射镜面层的材料为金属层。
3.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述芯层的材料为正性光致抗蚀剂、负性光致抗蚀剂或其混合物。
4.如权利要求1所述的光波导，其特征在于：所述斜面与所述基底表面之间的锐角为45度。
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