[发明专利]一种雕刻凹版抛光设备及抛光工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种雕刻凹版抛光设备及抛光工艺。

背景技术

表面光洁度是凹版印刷的一项重要质量指标，凹版在表面镀铬前需要进行 抛光。目前行业中采用手持式电动高速抛光机对凹版进行表面抛光，抛光时需 要使用油性抛光膏，抛光后需要使用溶剂(如汽油)及酒精进行清洗。在整个 过程中，手工抛光存在抛光质量不稳定的缺点，而且抛光轮的高速旋转、汽油 酒精的使用、化学粉尘的产生使目前的抛光工艺和设备存在安全、环保和健康 等方面的隐患。随着企业生产自动化程度的提高，需要提高抛光效率、保证凹 版的表面质量和一致性。

发明内容

本发明目的是提供了一种安全、环保、抛光效率高、抛光质量高的凹版抛 光机，其解决了现有技术中抛光方法安全性差、存在环保和健康隐患、抛光效 率低、抛光质量低的技术问题。

本发明的技术解决方案为：

一种雕刻凹版抛光设备，包括控制系统1、气动系统、可放置凹版的机架2、 设置在机架2上的X轴伺服机构、Y轴伺服机构和Z轴伺服机构、可在Z轴伺服 机构的带动下沿着Z轴方向运动的抛光装置5，其特殊之处在于：所述抛光装置 5包括设置在Z轴伺服机构上的恒压控制气缸6、设置在恒压控制气缸6上的电 动装置、设置在电动装置输出端的抛光头7、设置在抛光头7上的抛光垫8、可 向抛光头7提供抛光液的抛光液供应系统。

上述抛光液供应系统包括抛光液储存箱9、设置在抛光头7内的缓冲槽10、 设置在抛光头7下端面的抛光液外槽11，所述抛光液储存箱9和缓冲槽10之间 设置有抛光液管道12、电控阀13及流量控制阀14，所述电控阀13及流量控制 阀14分别与控制系统1电连接，所述缓冲槽10和抛光液外槽11之间设置有抛 光液导向孔15。

上述抛光头7下端面还设置有与抛光液外槽11同心的抛光液内槽16，所述 缓冲槽10与抛光液外槽11之间设置有多个圆周均布的抛光液导向孔15，所述 缓冲槽10与抛光液内槽16之间设置有多个圆周均布的抛光液导向孔15。

上述Y轴伺服机构包括Y轴左导轨41、Y轴右导轨42、Y轴丝杠43和Y轴 伺服电机44；所述Y轴左导轨41和Y轴右导轨42分别固定在机架2的左右两 侧上方，所述Y轴丝杠43与Y轴右导轨42平行设置，所述控制系统1与Y轴 伺服电机44通过Y轴拖链45电连接，所述Y轴伺服电机44可带动Y轴丝杠43 转动；所述X轴伺服机构包括X轴导轨31、X轴丝杠32和X轴伺服电机33；所 述X轴导轨31的左端通过滚轮浮动支撑在Y轴左导轨41上，所述X轴导轨31 的右端可在Y轴丝杠43的带动下在Y轴右导轨42上移动，所述控制系统1与X 轴伺服电机33通过X轴拖链34电连接，所述X轴伺服电机33可带动X轴丝杠 32转动；所述Z轴伺服机构包括可在X轴丝杠32的带动下在X轴导轨31上移 动的支撑架51、设置在支撑架51上的Z轴导轨52和Z轴伺服气缸53，所述抛 光装置与Z轴伺服气缸53的活动端连接；所述控制系统1与电动装置电连接。

上述电动装置包括调速电机3和减速箱4。

上述机架上设置有可放置凹版的电磁吸盘17；所述抛光垫8包括上层的带 微孔聚酯纤维层和下层的帆布层。

上述Y轴右导轨42、X轴导轨31上设置有保护罩。

一种使用权利要求1所述雕刻凹版抛光设备的雕刻凹版抛光工艺，其特征 在于：其包括以下步骤：

1]将预处理过的凹版固定在雕刻凹版抛光设备的电磁吸盘上；

2]控制系统通过电控阀和流量控制阀控制抛光液供应系统向抛光头持续提 供抛光液；

3]控制系统通过X轴伺服机构和Y轴伺服机构的平面运动以及Z轴伺服机 构和抛光装置的垂直运动以及电动装置带动的抛光头的旋转运动，带动抛光垫 对凹版的全部区域进行恒压旋转式抛光；

4]抛光完毕，用软水清洗凹版。

上述抛光液为水性抛光液，其包括以下重量份的组分：

水：96～99％；

磨料：1～4％；

所述磨料为纳米氧化铝颗粒、纳米氧化硅颗粒或纳米金刚石颗粒。

上述X轴伺服机构和Y轴伺服机构的平面运动轨迹为横向弓字形、纵向弓 字形和/或回字形运动轨迹；所述抛光头的旋转速度为30～80转/秒；所述抛光 垫与凹版的压力为70-90克/平方厘米。

本发明的优点是：