[发明专利]一种硅片蚀刻液及其制备方法

权利要求书

1.一种硅片蚀刻液，其特征在于：其由如下组分组成：

a)碱金属的氢氧化物；b)碱金属的偏硅酸盐；c)碱金属的烯二酸盐；d)金属羰基化合物；e)水，其中，组分a)、b)、c)、d)的摩尔比为1.2～4∶1∶0.1～1∶0.2～1，组分e)占所述硅片蚀刻液总重量的25％～55％。

2.根据权利要求1所述的硅片蚀刻液，其特征在于：所述的碱金属为钾或钠。

3.根据权利要求1所述的硅片蚀刻液，其特征在于：所述金属羰基化合物为羰基钨、羰基钴、羰基镍或羰基锰中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的硅片蚀刻液，其特征在于：所述的烯二酸盐的碳数为11～18之间的整数。

5.一种权利要求1所述的硅片蚀刻液的制备方法，其特征在于：依次包括如下步骤：

(1)在反应容器中，将化合物a)与二氧化硅按摩尔比2～2.2∶1混合，并使它们在水溶剂中，于温度50℃～110℃下反应生成所述的化合物b)；

(2)、分别将所述c)、d)加入到反应容器中，于温度100℃～150℃下保温搅拌至少2小时，得所述的硅片蚀刻液。

6.根据权利要求5所述的硅片蚀刻液的制备方法，其特征在于：将烯烃二酸与碱金属的氢氧化物按投料摩尔比1∶2～2.5混合，使烯烃二酸完全反应生成所述c)和水，得到所述c)、水以及剩余的碱金属的氢氧化物的混合物，然后将在步骤(2)中，将该混合物直接加入到容器中。

7.根据权利要求5所述的硅片蚀刻液的制备方法，其特征在于：使化合物(d)以乳化液的形式加入，所述乳化液由化合物d)在高压高速搅拌条件下，在水中发生乳化形成。

8.根据权利要求7所述的硅片蚀刻液的制备方法，其特征在于：所述的乳化液中，d)的质量百分含量为95％～98％。

9.如权利要求5所述的硅片蚀刻液的制备方法，其特征在于：步骤(2)中所述保温搅拌在温度120℃～150℃下进行4～6小时。