[发明专利]彩色滤光基板及其制造方法

权利要求书

1.一种彩色滤光基板的制造方法，包括下述步骤：

步骤1：提供一基板；

步骤2：在该基板上形成一遮光图案层，该遮光图案层具有复数个第一开口，并曝露出部份的该基板；

步骤4：形成复数个彩色滤光层，分别覆盖在各第一开口所曝露出的该基板上；其特征在于：在上述步骤2和步骤4之间还包括下述步骤：

步骤3：在该遮光图案层上形成一挡墙层，该挡墙层具有复数个第二开口，并曝露出部份该遮光图案层。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：在上述形成彩色滤光层的步骤4之后，还包括下述步骤：

步骤5：形成一透明电极层，该透明电极层覆盖该遮光图案层、该挡墙层以及该彩色滤光层。

3.如权利要求2所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：在所述步骤5之后，还包括下述步骤：

步骤6：在形成该透明电极层之后，形成复数个间隙物，该复数个间隙物分别位于各第二开口内的透明电极层上，且该挡墙层围绕各间隙物。

4.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：在上述形成彩色滤光层的步骤4之后，还包括下述步骤：

步骤52：形成复数个间隙物，该复数个间隙物分别位于各第二开口内，且该挡墙层围绕各间隙物。

5.如权利要求4所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：在所述步骤52之后，还包括下述步骤：

步骤62：在形成该间隙物之后，再形成一透明电极层，该透明电极层覆盖该遮光图案层、该挡墙层、该彩色滤光层以及该间隙物。

6.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：形成该遮光图案层与该挡墙层的方法为一微影制程，形成该彩色滤光层的方法为一喷墨制程或一微影制程。

7.如权利要求1或6所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：形成该遮光图案层的材料选自负型光阻材料或者正型光阻材料，形成该挡墙层的材料选自下述材料之一：负型光阻材料、正型光阻材料，彩色光阻材料。

8.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：形成该彩色滤光层的步骤4与形成该挡墙层的步骤3在同一步骤中进行，具体步骤如下：利用微影制程在基板上形成彩色滤光层时，部份的彩色滤光层设置在遮光图案层上，当作挡墙层。

9.如权利要求8所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于：形成该挡墙层的材料与形成相邻于该挡墙层的该彩色滤光层的材料不同。

10.一种彩色滤光基板，包括：

一基板；

一设置在该基板上的遮光图案层，该遮光图案层具有复数个第一开口，并曝露出部份该基板；

复数个彩色滤光层，分别设置在各第一开口所曝露出的基板上；其特征在于：还包括一挡墙层，该挡墙层设置在该遮光图案层上，且该挡墙层具有复数个第二开口，该复数个第二开口曝露出部份遮光图案层。

11.如权利要求10所述的彩色滤光基板，其特征在于：还包括复数个间隙物及一透明电极层，该透明电极层覆盖在该遮光图案层、该挡墙层以及该彩色滤光层上，该复数个间隙物分别位于各第二开口内的透明电极层上，且该挡墙层围绕各间隙物。

12..如权利要求10所述的彩色滤光基板，其特征在于：还包括复数个间隙物及一透明电极层，该复数个间隙物分别位于各第二开口内，且该挡墙层围绕各间隙物，该透明电极层覆盖该遮光图案层、该挡墙层、该彩色滤光层以及该间隙物。