[发明专利]铍青铜氧化膜清洗剂及其制备方法

权利要求书

1.铍青铜氧化膜清洗剂，其特征在于由下述重量百分含量的成分组成：

硫酸             20％-50％；

硝酸根离子       2-20％；

有机膦酸         2-10％；

卤素离子         0.01-1％；

水               余量；

所述的硝酸根离子以硝酸或者是硝酸金属盐的形式加入，其金属盐包括硝 酸钠、硝酸钾、硝酸锌；所述的有机膦酸以其金属盐的形式加入，其金属盐包 括有机膦酸钠盐和钾盐；所述的卤素离子以酸或者盐的形式加入，包括HF、HCL、 HBr或其钠盐钾盐，I以KI的形式加入；

所述的有机膦酸为有机膦酸羟基亚乙基二磷酸、2-羟基膦酰基乙酸、2-膦 酸丁烷-1，2，4-三羧酸中一种以上的混合物。

2.如权利要求1所述的铍青铜氧化膜清洗剂，其特征在于由下述重量百分 含量的成分组成：

硫酸             25-45；

硝酸根离子       5-15％；

有机膦酸         2-8％；

卤素离子         0.02-0.8％；

水               余量。

3.如权利要求1所述的铍青铜氧化膜清洗剂，其特征在于由下述重量百分 含量的成分组成：

硫酸             30-40％；

硝酸根离子       5-10％；

有机膦酸         2-5％；

卤素离子         0.05-0.5％；

水               余量。

4.如权利要求1所述的铍青铜氧化膜清洗剂，其特征在于由下述重量百分 含量的成分组成：

硫酸             32-38％；

硝酸根离子       6-8％；

有机膦酸         3-4％；

卤素离子         0.1-0.3％；

水               余量。

5.如权利要求1所述的铍青铜氧化膜清洗剂的制备方法，其特征在于包括 以下工艺步骤：

(1)原料配比

硫酸             20％-50％；

硝酸根离子       5-20％；

有机膦酸         2-10％；

卤素离子         0.01-1％；

水               余量；

(2)在配方量的有机膦酸中缓缓加入硫酸，充分搅拌，冷却至室温后，再 加入硝酸根离子，充分搅拌后，加入卤素离子，即得到铍青铜氧化膜清洗剂。

6.如权利要求5所述的铍青铜氧化膜清洗剂的制备方法，其特征在于步骤 (1)中原料配比为：

硫酸             25％-45％；

硝酸根离子       5-15％；

有机膦酸         2-8％；

卤素离子         0.02-0.8％；

水               余量。  

7.如权利要求5所述的铍青铜氧化膜清洗剂的制备方法，其特征在于步骤 (1)中原料配比为：

硫酸             30％-40％；

硝酸根离子       5-10％；

有机膦酸         2-5％；

卤素离子         0.05-0.5％；

水               余量。

8.如权利要求5所述的铍青铜氧化膜清洗剂的制备方法，其特征在于步骤 (1)中原料配比为：

硫酸             32％-38％；

硝酸根离子       6-8％；

有机膦酸         3-4％；

卤素离子         0.1-0.3％；

水               余量。