[发明专利]一种高纯石英坩埚及其制造方法

权利要求书

1.一种高纯石英坩埚的制造方法，其特征在于：选用三种不同颗粒规格SiO₂＞99.7％的熔融石英晶体为主要原料，按重量百分比将颗粒直径Φ0.381mm30％-40％、Φ0.173mm 10％-15％、Φ0.0065mm 60％-45％的比例配比，颗粒直径允许误差都为±10％；另加添加结合剂乳酸0.2％-0.25％、去离子纯净水15％配制成浆料，浆料置于球磨机中球磨、调浆2小时，把调浆好的料浆浇铸到预先准备好的石膏模中，铸好后的坩锅坯自然干燥3小时脱模，合格的坩锅坯置放在120℃烘房里再烘48小时，烘干的石英坩埚坯在自动推板式油窑内，经1150℃-1170℃温度下1小时快速烧结成成品。

2.如权利要求1所述的一种高纯石英坩埚的制造方法，其特征在于：选用SiO₂＞99.7％的熔融石英晶体为主要原料，按重量百分比将颗粒直径Φ0.381mm30％-34％、Φ0.173mm 10％-15％、Φ0.0065mm 60％-51％的比例配比，颗粒直径允许误差都为±10％。

3.如权利要求1所述的一种高纯石英坩埚的制造方法，其特征在于：按重量百分比将颗粒直径Φ0.381mm 32％-36％、Φ0.173mm 10％-15％、Φ0.0065mm 58％-49％的比例配比，颗粒直径允许误差都为±10％。

4.如权利要求1所述的一种高纯石英坩埚的制造方法，其特征在于：按重量百分比将颗粒直径Φ0.381mm 35％-40％、颗粒0.173mm 10％-15％、颗粒0.0065mm55％-45％的比例配比，颗粒直径允许误差都为±10％。