[发明专利]有机玻璃镀镍的方法有效
| 申请号: | 200910101263.0 | 申请日: | 2009-07-24 |
| 公开(公告)号: | CN101638768A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
| 发明(设计)人: | 钱苗根;钱良;徐治伟 | 申请(专利权)人: | 湖州金泰科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司: | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 纪 元;赵卫康 |
| 地址: | 313000浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机玻璃 方法 | ||
1.有机玻璃镀镍的方法,在真空条件下对有机玻璃镀镍,其特 征在于:它包括一在真空镀镍前对有机玻璃表面的改性步骤,所述的 改性步骤是将有机玻璃置于真空室内,用离子轰击有机玻璃表面;
所述的对有机玻璃镀镍是先将经改性步骤得到的表面改性有机 玻璃于磁控溅射-真空蒸镀复合镀膜机的真空室中进行磁控溅射镀 镍,然后加热有机玻璃表面温度为50℃~60℃并采用真空蒸镀的方 法继续镀镍;
所述改性步骤前,将有机玻璃放入洗净溶液中浸泡,然后分别 用自来水和纯净水冲洗干净,再烘干。
2.根据权利要求1所述的有机玻璃镀镍的方法,其特征在于: 所述真空室的镍靶材的厚度为5mm~7mm。
3.根据权利要求2所述的有机玻璃镀镍的方法,其特征在于: 所述镍靶材的长为700mm~1000mm,宽为150mm~300mm。
4.根据权利要求2所述的有机玻璃镀镍的方法,其特征在于: 所述真空室中的磁体为钕铁硼强磁体和锶铁氧体,所述真空磁控溅射 镀镍室中的水冷方式采用间接水冷却方式,水冷背板为钛板。
5.根据权利要求4所述的有机玻璃镀镍的方法,其特征在于: 所述真空室中的磁路布局为:中间安装连接有条状的钕铁硼强磁体, 磁场强度为500Gs~600Gs;四周安装连接有环状的锶铁氧体,磁场 强度为200Gs~350Gs。
6.根据权利要求1所述的有机玻璃镀镍的方法,其特征在于: 所述的用离子轰击有机玻璃表面是在真空室内安装一铝棒,将真空室 抽真空至4×10-2Pa以下,再充入氩气至2.1Pa~2.3Pa,开启轰击 电源轰击有机玻璃表面2~4min。
7.根据权利要求1所述的有机玻璃镀镍的方法,其特征在于: 所述的用离子轰击有机玻璃表面是在真空室内安装一铝棒,将真空室 抽真空至4~6Pa,直接开启电源轰击有机玻璃表面5~6min。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖州金泰科技股份有限公司,未经湖州金泰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910101263.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:流体喷射头组件及其制造方法
- 下一篇:一种数据包处理的方法和装置
- 同类专利
- 专利分类





