[发明专利]一种在陶瓷阀芯表面沉积防护薄膜的方法

权利要求书

1.一种在陶瓷阀芯表面沉积防护薄膜的方法，所采用的镀膜机包括真空室、磁控溅射源、线性离子源和兼具公转和自转的工件托架，工件托架安装在真空室内部，其特征在于：包括如下步骤：

(1)、将陶瓷阀芯先在丙酮溶液中进行超声清洗，再在酒精溶液中进行超声清洗，干燥后，悬挂固定于工件托架上，使磁控溅射源与线性离子源环绕在陶瓷阀芯周围；

(2)、在磁控溅射源上安装由过渡金属制成的金属靶，将真空室抽真空至小于2.0×10^-5Torr后，通入惰性气体，开启线性离子源，调整陶瓷阀芯的负偏压为0～300V，对陶瓷阀芯进行离子轰击，工作时间为5～40分钟后，关闭线性离子源；

(3)、对陶瓷阀芯进行第一层薄膜沉积，调整陶瓷阀芯的负偏压为-50～-200V，开启磁控溅射源电源，调整磁控溅射源的工作电流为2～3A，通入惰性气体，工作时间为：10～15分钟；

(4)、对陶瓷阀芯进行第二层薄膜沉积，保持步骤(3)中的工作条件不变，立刻启动线性离子源，调整线性离子源的工作电流为0.1～0.2A；同时通入含碳气源，工作时间为10～15分钟；

(5)、对陶瓷阀芯进行第三层薄膜沉积，设置线性离子源的工作电流为0.1～0.2A，线性离子源的工作电压为：1000～1300V，调整陶瓷阀芯的负偏压为-50～-200V，工作时间为：60～100分钟。

2.根据权利要求1所述的在陶瓷阀芯表面沉积防护薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(2)中过渡金属为铬或钛或钨。

3.根据权利要求1或2所述的在陶瓷阀芯表面沉积防护薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(4)中通入的含碳气源为甲烷或乙炔。