[发明专利]一种镀膜外延圆硅片表面及边缘的处理方法无效
申请号: | 200910095530.8 | 申请日: | 2009-01-19 |
公开(公告)号: | CN101474773A | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 郜勇军;方建和 | 申请(专利权)人: | 郜勇军 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B9/06;H01L21/304 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人: | 舒 良 |
地址: | 324300浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀膜 外延 硅片 表面 边缘 处理 方法 | ||
所属技术领域
本发明涉及一种镀膜外延圆硅片表面及边缘的处理方法。
背景技术
目前,我们在将镀膜外延圆硅片处理成太阳能级单晶硅原材料时,通常采用酸液腐蚀方法,即将镀膜外延圆硅片置于浓度至少在99%以上的酸液中浸泡,先要腐蚀剥离表面金属层或镀膜度,然后再清洗金属扩散层,这种方法不仅对酸的浓度要求高,使用几次后就作为废酸处理,废酸处理难度大,环保性差,且成本高。而且在浸泡过程中需要经常翻动,并精确掌握腐蚀时间,否则腐蚀过度,导致成品率低。
发明内容
本发明的目的是提供生产成本低,且成品率高的一种镀膜外延圆硅片表面及边缘的处理方法。
本发明采取的技术方案是:一种镀膜外延圆硅片表面及边缘的处理方法,其特征在于先将镀膜外延圆硅片按不同的镀层分类后,再按不同厚度分档,然后置于常规的硅片研磨机研磨至表面镀层磨完为止,之后,将倒角砂轮装在电机上打磨边缘镀层至磨完为止。
本发明由于采用机械进行镀膜外延圆硅片表面及边缘的处理,与原来采用酸液腐蚀的化学方法截然不同,生产成本低,且能提高成品率。
具体实施方式
下面结合具体的实施例对本发明作进一步说明。
1、将镀膜外延圆硅片按不同的镀层分类。
2、再按镀膜外延圆硅片不同厚度分档。
3、在常规的硅片研磨机研磨至表面镀层磨完为止。
4、将倒角砂轮装于转速在电机上进行手工倒角,打磨边缘镀层至磨完为止。
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