[发明专利]一种连续化薄膜真空沉积方法及装置

权利要求书

1.一种连续化薄膜真空沉积方法，其特征在于它包括以下步骤：

A)通过在真空沉积室的进口设置至少一级进口真空预抽室、在真空沉积室的出口设置至少一级出口真空保护室，使位于真空沉积室两边的进口真空预抽室、出口真空保护室的真空度与真空沉积室的真空度基本相同，以保持真空沉积室内的真空度；

B)各级进口真空预抽室、真空沉积室、各级出口真空保护室之间由狭缝连通，并由设置在狭缝处的阀门密封，其中位于真空沉积室进口一侧的各阀门为进口阀门，位于真空沉积室出口一侧的各阀门为出口阀门，基底通过狭缝进入各室，阀门在基底通过时开启，在基底通过后关闭；

C)基底以一定的间隔和一定的速度连续从外界大气环境通过进口真空预抽室传送进入真空沉积室进行薄膜沉积，从真空沉积室通过出口真空保护室传送进入外界大气环境；

D)基底在进入进口真空预抽室和离开出口真空保护室时，至少一个进口阀门和至少一个出口阀门是关闭的，以保持真空沉积室内的真空度不变；

E)调整基底位于各进口真空预抽室、真空沉积室和出口真空保护室内时的传送速度使相邻二块基底之间的间距在到达真空沉积室内的沉积装置前缩小，并使基底在离开真空沉积室时，相邻两块基底之间的间距增大；

F)基底在真空沉积室内的传送速度为恒定速度，在真空沉积室的进口设有一段追赶区，加快基底在进口真空预抽室内的传送速度，使后一基底在追赶区内追上前一基底，在真空沉积室的出口设一段分离区，加快基底在出口真空保护室的传送速度，使前一基底与后一基底在分离区分离。

2.如权利要求1所述的一种连续化薄膜真空沉积方法，其特征在于其中步骤E)进一步包括以下步骤：相邻二块基底之间的间距在到达真空沉积室内的沉积装置前缩短到1厘米以下。

3.如权利要求1或2所述的一种连续化薄膜真空沉积方法，其特征在于其中步骤E)进一步包括以下步骤：各进口真空预抽室、真空沉积室和出口真空保护室内的基底传送装置各自独立设置，通过改变各传送装置的传送速度来调整基底的传送速度。

4.一种连续化薄膜真空沉积装置，包括真空沉积室：用于在基底上沉积薄膜，装配有沉积装置；传送装置：装配有传送带和传送轮，用于以一定的间隔和一定的速度连续传送基底从外界大气环境进入真空沉积室进行薄膜沉积，并从真空沉积室进入外界大气环境，其特征在于它还包括：

A)至少一级进口真空预抽室：与真空沉积室进口相连，装配有真空泵；

B)至少一级出口真空保护室：与真空沉积室出口相连，装配有真空泵；

C)狭缝：设于进口真空预抽室、真空沉积室、出口真空保护室各室之间，用于室与室之间连通和基底通过；

D)阀门：设置在各狭缝处，用于使各室之间密封，其中位于真空沉积室进口一侧的各阀门为进口阀门，位于真空沉积室出口一侧的各阀门为出口阀门，在基底通过时开启，基底通过后关闭，在基底进入进口真空预抽室和离开出口真空保护室时，至少一个进口阀门和至少一个出口阀门是关闭的；

E)控制装置：与阀门相连，用于控制阀门的启闭；

其中位于各进口真空预抽室、真空沉积室和出口真空保护室内的基底传送装置都是各自独立的，传送装置各自与步进电机相连，基底传送速度由各自的步进电机分别控制，使相邻二块基底之间的间距在到达真空沉积室内的沉积装置前缩小，并使已沉积薄膜的基底在离开真空沉积室时，相邻两块基底之间的间距增大，所述真空沉积室的进口处设有一段后一基底追赶前一基底的追赶区，真空沉积室的出口处设有一段前一基底与后一基底分开的分离区。

5.如权利要求4所述的一种连续化薄膜真空沉积装置，其特征在于：所述基底在真空沉积室内是连续排列的，彼此间隔小于1厘米。

6.如权利要求4或5所述的一种连续化薄膜真空沉积装置，其特征在于：所述进口真空预抽室和出口真空保护室各为二级，第一级进口真空预抽室同外界大气相连，而第二级进口真空预抽室同真空沉积室进口相连，第一级出口真空保护室同外界大气相连，而第二级出口真空保护室同真空沉积室出口相连，一旦同外界大气相连的第一级进口真空预抽室进口阀门打开让基底经过时，二级进口真空预抽室之间的进口阀门处于关闭状态，在同外界大气相连的第一级出口真空保护室的出口阀门打开让基底经过时，二级出口真空保护室之间的出口阀门处于关闭状态。

7.如权利要求4或5所述的一种连续化薄膜真空沉积装置，其特征在于：所述追赶区和分离区设有用于替代传动轮的支撑轮支承基底。