[发明专利]中继站点和中继站点输出光信号调整方法有效
申请号: | 200910092938.X | 申请日: | 2009-09-11 |
公开(公告)号: | CN102025414A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 齐娟;石晓钟;张森 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H04B10/08 | 分类号: | H04B10/08;H04B10/17 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 中继 站点 输出 信号 调整 方法 | ||
1.一种中继站点,其特征在于,包括:
检测控制单元,用于连续输出调制有答复信号的交流信号;
输出光稳定单元,用于提取电流信号中的直流信号,所述电流信号由所述中继站点接收到的部分输出光信号进行光电转换得到;将所述直流信号的电流值与第一预设值进行比较,当所述直流信号的电流值大于所述第一预设值时,减小驱动电流的电流值,当所述直流信号的电流值小于所述第一预设值时,增大驱动电流的电流值,所述驱动电流用于驱动产生泵浦光;
答复稳定单元,用于提取所述电流信号中的第一交流信号,所述第一交流信号为对所述调制有答复信号的交流信号进行一次调整后输出的信号;从所述输出光稳定单元获取所述直流信号,将所述第一交流信号的峰值与谷值相减得到差值,将所述差值和所述直流信号的电流值相比得到第一比值,将所述第一比值与第二预设值进行比较,当所述第一比值大于所述第二比较值时,减小增益值,当所述第一比值小于所述第二比较值时,增大增益值,所述增益值用于调整所述调制有答复信号的交流信号的幅值;
可调增益放大单元,用于根据所述增益值,调整接收到的所述调制有答复信号的交流信号的幅值,并输出调整后的调制有答复信号的第二交流信号;
泵浦光输出单元,用于将所述第二交流信号与调整后的所述驱动电流耦合后,驱动产生所述泵浦光,并通过所述泵浦光将所述答复信号携带在所述输出光信号上以及调整所述输出光信号的强弱。
2.根据权利要求1所述的中继站点,其特征在于,
所述检测控制单元,还用于在连续输出调制有答复信号的交流信号之前,提取初始电流信号中调制有监控信号的初始交流信号,所述初始电流信号由中继站点接收到的部分初始输出光信号进行光电转换得到;从所述初始交流信号中解调得到所述监控信号,并根据所述监控信号的指示生成答复信号;并将所述答复信号调制在产生的所述交流信号上。
3.根据权利要求2所述的中继站点,其特征在于,还包括:
分光器,用于从所述初始输出光信号和所述输出光信号中分别分出所述部分初始输出光信号和所述部分输出光信号;
光电转换器,用于将接收到的所述部分初始输出光信号和所述部分输出光信号分别转换为所述初始电流信号和所述电流信号。
4.根据权利要求1、2或3所述的中继站点,其特征在于,所述输出光稳定单元包括:
低通滤波器,用于提取电流信号中的直流信号;
比较控制器,用于将所述直流信号的电流值与第一预设值进行比较,当所述直流信号的电流值大于所述第一预设值时,减小驱动电流的电流值,当所述直流信号的电流值小于所述第一预设值时,增大驱动电流的电流值,所述驱动电流用于驱动产生泵浦光。
5.根据权利要求1、2或3所述的中继站点,其特征在于,所述答复稳定单元包括:
第一带通滤波器,用于提取所述电流信号中的第一交流信号;
获取模块,用于从所述输出光稳定单元获取所述直流信号;
答复稳定模块,用于将所述第一交流信号的峰值与谷值相减得到差值,将所述差值和所述直流信号的电流值相比得到第一比值,将所述第一比值与第二预设值进行比较,当所述第一比值大于所述第二比较值时,减小增益值,当所述第一比值小于所述第二比较值时,增大增益值,所述增益值用于调整所述调制有答复信号的交流信号的幅值。
6.根据权利要求2或3所述的中继站点,其特征在于,所述检测控制单元包括:
第二带通滤波器,用于提取初始电流信号中调制有监控信号的初始交流信号;
答复生成模块,用于从所述初始交流信号中解调得到所述监控信号,并根据所述监控信号的指示生成答复信号;
交流信号产生模块,用于通过振荡产生连续的交流信号;
答复调制模块,用于将所述答复信号调制在产生的所述交流信号上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910092938.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:三维安装半导体装置及其制造方法
- 下一篇:高吞吐量清洁室