[发明专利]摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法无效
| 申请号： | 200910092000.8 | 申请日： | 2009-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN102012584A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 宋省勋 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 摩擦 阵列 基板用基板 进行 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种摩擦辊，用于摩擦阵列基板用基板，其特征在于，所述摩擦辊包括滚轴及缠绕在所述滚轴上的多个摩擦布单元，每个摩擦布单元缠绕在滚轴的宽度与其对应的所述阵列基板用基板的阵列基板区域的宽度相同。
2.根据权利要求1所述的摩擦辊，其特征在于，所述多个摩擦布单元上贴设有双面胶，通过双面胶将所述摩擦布单元与所述滚轴进行固定。
3.一种用如权利要求1或2所述的摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法，其特征在于，包括：
在阵列基板用基板上沉积取向层；
将摩擦辊固定于所述取向层的上方，使得所述阵列基板用基板的与所述摩擦辊平行的一行或一列阵列基板区域与所述摩擦辊的摩擦布单元相互一一对应；
移动所述摩擦辊或所述阵列基板用基板，对所述取向层进行摩擦形成取向。
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