[发明专利]一种受阻胺光稳定剂的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910074532.9 申请日: 2009-06-25
公开(公告)号: CN101591331A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: 刘爱林;刘会然 申请(专利权)人: 中国乐凯胶片集团公司;保定市乐凯化学有限公司
主分类号: C07D401/14 分类号: C07D401/14;C08K5/357;C08K5/3492
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 代理人: 郭绍华;李羡民
地址: 071054*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 受阻 稳定剂 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种受阻胺光稳定剂的制备方法。

背景技术

众所周知,在各类光稳定剂中,有一种受阻胺光稳定剂,该稳定剂结构通式(I)如下:

通式(I)所示化合物的制备方法一般是以三聚氰氯为原料通过下列路线来合成:

这种制备方法存在需要加压、反应时间长、聚合时存在成环副反应、产品收率低、分 子量分布宽、溶解性差等缺陷。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种受阻胺光稳定剂的制备方法,该方法具有在常 压下进行、反应时间短、聚合时避免成环副反应的发生、产品收率高、分子量分布窄、溶 解性好的优点。

解决上述问题所采取的技术方案为:

一种受阻胺光稳定剂的制备方法,它包括如下步骤:

①在反应器中加入三聚氰氯、有机溶剂,在-20℃~20℃下同时滴加胺溶液和碱性溶液, 滴完后反应0.5~5h得到中间体A;

②在反应器中加入中间体A、哌啶二胺和有机溶剂1,在30℃~80℃反应1~4h,滴加 碱性溶液,滴完后反应1~5h,得到中间体B;

③在反应器中加入中间体B、有机溶剂2和碱性溶液,在80℃~160℃下滴加哌啶二胺 溶液,滴完后反应0.5~8h,得到中间体C;

④在反应器中加入中间体C在200℃~350℃聚合反应1~4h,得到受阻胺光稳定剂;

其反应方程式为:

其中:

R为:

R1为C1~C4的烷基;

R2为C2~C8的直链烷基;

R3为-NR4R5,-OR6或具有下述通式的的基团:

R4,R5,R6是C1-C10的烷基、C5-C7环烷基,它们可以相同或不同;

X是O,S或CH2

所述哌啶二胺为下列化合物之一:

所述胺为下列化合物之一:

所述碱性溶液为碳酸钠水溶液、氢氧化钠水溶液、氢氧化钾水溶液、三乙胺或吡啶。

在中间体A的制备过程中,所述有机溶剂选自二氯甲烷、苯、甲苯、二甲苯、乙醇、 氯仿、丙酮或四氢呋喃中的一种。

适合本发明的碱性溶液可以是无机碱性溶液,也可以是有机碱性溶液,所述无机碱性 溶液是碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾、氢氧化钠或氢氧化钾的水溶液等,有机碱 性溶液是三乙胺、吡啶或N,N-二乙基苯胺等,优选碳酸钠水溶液、氢氧化钠水溶液、氢氧 化钾水溶液、三乙胺或吡啶。

适合本发明的有机溶剂1是甲苯、二甲苯、丙酮、氯仿、四氢呋喃、甲醇、乙醇或丁 酮等,优选甲苯、二甲苯、丙酮、氯仿或四氢呋喃。

适合本发明的有机溶剂2是疏水性溶剂,它可以是硝基苯、乙基苯、二乙基苯、甲苯、 二甲苯、氯苯或十二烷等,优选甲苯、二甲苯、氯苯或十二烷。

本发明为了避免在聚合时发生成环副反应,在合成时采取了先成环后聚合的方法,在 成环时采取了“假高稀技术”,提高了成环率和产品的收率,所谓的“假高稀技术”就是 通过滴加反应物溶液的方法使在正常浓度的反应条件下拟造出高稀反应条件的一种技术; 聚合时采用了高温开环聚合,避免了在聚合时发生成环副反应,从而提高了产品的收率, 分子量分布窄,溶解性好,聚合时的反应温度为200℃~350℃,优选280℃~350℃。

本发明提供的受阻胺光稳定剂化合物的代表式如下:

与现有技术相比,本发明提供的制备方法反应时间短,由于在合成时采取了先成环后 聚合的方法,避免了在聚合时成环副反应的发生,得到产品的收率高,分子量分布窄,溶 解性好。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国乐凯胶片集团公司;保定市乐凯化学有限公司,未经中国乐凯胶片集团公司;保定市乐凯化学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910074532.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top