[发明专利]航天用掺铈的二次表面镜玻璃基片的制备方法有效
| 申请号： | 200910074036.3 | 申请日： | 2009-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101508525A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 卢勇 | 申请（专利权）人： | 秦皇岛星箭特种玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C3/095 | 分类号： | C03C3/095;B64G1/50 |
| 代理公司： | 石家庄汇科专利商标事务所 | 代理人： | 周大伟 |
| 地址： | 066004河北省秦皇岛*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 航天 用掺铈 二次 表面 玻璃 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种航天用掺铈的二次表面镜玻璃基片的制备方法，航天用掺铈的二次表面镜玻璃基片配方由下述重量比的成分组成：
二氧化硅(SiO2) 54-58； 氧化铝(Al2O3)3-4；
三氧化二硼(B2O3)5-8； 氧化锌(ZnO) 3-4；
氧化锶(SrO) 1.5-3； 氧化钠(Na2O) 19-22；
氧化铈(CeO2) 4.7-5.3；
采用间接辐射加热，具体工艺为：将按设计成分配合好的配合料置于铂金坩埚中，将其放入硅钼电炉中加温，并快速升温至1460℃，恒温2小时熔化，再升至1520℃，恒温3小时澄清，然后降温出料，将所出的料块置于电阻炉内退火，所得产品即为二次表面镜的玻璃基片。
2.根据权利要求1所述的航天用掺铈的二次表面镜玻璃基片的制备方法，所述的放入硅钼电炉中快速升温是由1300℃快速升至1460℃，升温时间为3小时。
3.根据权利要求1所述的航天用掺铈的二次表面镜玻璃基片的制备方法，所述所出料块置于电阻炉内560℃退火。
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