[发明专利]一种单片集成微型透镜及其制作方法

权利要求书

1.一种单片集成微型透镜的制作方法，其特征是，包括以下工序：

1)在基板的一面形成一凹坑；

2)用回流光刻胶填充凹坑，然后涂覆顶层掩蔽用光刻胶；

3)将凹坑上的光刻胶形成一圆台状的光刻胶柱；

4)去除顶层掩蔽用光刻胶；

5)应用回流工艺熔化光刻胶柱，形成微型透镜。

2.根据权利要求1所述单片集成微型透镜的制作方法，其特征在于所述基板包括半导体衬底或者铁电材料。

3.根据权利要求2所述单片集成微型透镜的制作方法，其特征在于所述半导体衬底为InP或者GaAs或者Si。

4.根据权利要求1所述单片集成微型透镜的制作方法，其特征在于所述凹坑应用湿法腐蚀或者等离子体干法刻蚀制作而成。

5.根据权利要求1所述单片集成微型透镜的制作方法，其特征在于所述圆台状的光刻胶柱应用光刻工艺和扫胶工艺制作而成。

6.根据权利要求1所述单片集成微型透镜的制作方法，其特征在于所述用于顶层掩蔽的光刻胶与回流光刻胶配合使用，二者共同实现双层胶工艺。