[发明专利]含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶有效
| 申请号: | 200910058004.4 | 申请日: | 2009-01-04 |
| 公开(公告)号: | CN101463106A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
| 发明(设计)人: | 杨刚 | 申请(专利权)人: | 成都金桨高新材料有限公司 |
| 主分类号: | C08F212/14 | 分类号: | C08F212/14;C08F212/32;C08F216/12;C08F222/40;C08F8/32;G03F7/038 |
| 代理公司: | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人: | 舒启龙 |
| 地址: | 610041*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 结构 共聚物 树脂 及其 深紫 外负性 化学 增幅 光刻 | ||
1.一种含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂,由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下,通过在溶剂中进行聚合反应,以及相应的后处理制备而成,其特征是:所述共聚单体为:
(1)羟基苯乙烯单体,40~90份重量;
化学通式:
式中:R=H;
(2)含苯并噁嗪结构的单体,5~40份重量;
化学通式:
R1是乙烯基、马来酰亚胺基;R2是甲基、乙基、苯基、对甲氧基苯基、对烯丙氧基苯基、马来酰亚胺基苯基;
(3)丙烯酸酯类单体或/和苯乙烯类单体,1~40份重量;
化学通式:
式中:R4=H、C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20芳基、C1-C20芳氧基;
R5=H、C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20芳基、C1-C20芳氧基;
Rx=H、C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20芳基、C1-C20芳氧基;
Ry=H、C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20芳基、C1-C20芳氧基;
所述共聚物成膜树脂的分子量为2000~40000,分子量分布为1.3~3。
2.根据权利要求1所述含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂,其特征是:所述丙烯酸酯类单体为以下之一种:丙烯酸甲酯;甲基丙烯酸甲酯;丙烯酸乙酯;甲基丙烯酸乙酯;丙烯酸丙酯;甲基丙烯酸丙酯;丙烯酸丁酯;甲基丙烯酸丁酯;丙烯酸特丁酯;甲基丙烯酸特丁酯;丙烯酸环戊酯;甲基丙烯酸环戊酯;丙烯酸环己酯;甲基丙烯酸环己酯;丙烯酸羟乙酯;甲基丙烯酸羟乙酯;丙烯酸羟丙酯;甲基丙烯酸羟丙酯;丙烯酸缩水甘油酯;甲基丙烯酸缩水甘油酯;丙烯酸乙氧乙基酯;甲基丙烯酸乙氧乙基酯;丙烯酸苄酯;甲基丙烯酸苄酯。
苯乙烯类单体为以下之一种:苯乙烯:对叔丁基苯乙烯;对甲氧基苯乙烯;对乙氧基苯乙烯;3,5-二甲氧基苯乙烯3,5-二乙氧基苯乙烯;对苯氧基苯乙烯。
3.根据权利要求2所述含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂,其特征是:所述共聚合所用的溶剂选自甲苯、二甲苯、四氢呋喃、二氧六环氯仿、甲醇、乙醇、DMF、NMP之一种;共聚合反应的引发剂选自偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈之一种,过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、苯甲酸过氧化氢、叔丁基过氧化特戊酸酯之一种;引发剂用量为单体总重量的0.3%~10%。
4.一种采用如权利要求1所述成膜树脂为原料的深紫外负性化学增幅型光刻胶,主要由以下组分混合组成:
成膜树脂 15~35份重量;
光致产酸剂 0.4~10份重量;
交联剂 0.4~12份重量;
溶剂 60~85份重量;
有机碱 0.05~0.5份重量;
溶解抑制剂 0.5~3份重量。
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