[发明专利]化学机械研磨方法无效
| 申请号： | 200910055833.7 | 申请日： | 2009-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN101987428A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 杨涛 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 王一斌;王琦 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械研磨方法，其特征在于，该方法包括：向原液中加入浓度为0.5％至0.9％的双氧水H2O2；采用加入H2O2后的原液对金属铜进行研磨。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括：向原液中加入浓度为0.5％至0.9％的H2O2之前，采用去离子水DIW对原液进行稀释，且原液的稀释比例为16∶1至20∶1。
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