[发明专利]制备有序多孔氧化铝模板的方法及装置

权利要求书

1、一种制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：其包括以下步骤：

1)去除高纯铝片上的污渍及氧化膜，并抛光；

2)以步骤1)中铝片作为阳极，贱金属片作为阴极，采用两次阳极氧化法制备有序多孔氧化铝模板。

2、如权利要求1所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：高纯铝片在450～550℃马弗炉中保温3～8h，随炉冷却至室温后取出，依次在丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗3～5min，去除铝表面的污渍。

3、如权利要求1所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：高纯铝片置于50～60℃的5-10wt％氢氧化钠溶液中腐蚀1～3分钟，去除其上氧化膜。

4、如权利要求1所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：其采用电化学抛光，抛光液为90-95vol％磷酸+3-6vol％硫酸+15-20g/L CrO₃混合液，在70-90℃水浴池中，保持电流在0.5～0.9A之间，抛光时间在3～7min之间。

5、如权利要求1所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：步骤1)中铝片作为阳极，贱金属片作为阴极，以0.2～0.4M草酸为电解液，电解液温度控制在0～5℃之间，在20V-140V直流电压下进行第一次阳极氧化，其氧化时间控制在4～8h之间；铝片在5～8wt％的磷酸与1～2wt％的铬酸的混合溶液中浸泡7～12小时，温度控制于45～70℃之间，去除第一次阳极氧化产生的多孔氧化膜；铝片以与第一次不同类型的电解液及电压进行第二次阳极氧化，其电解液温度同样控制在0～5℃之间，氧化时间也同样控制于4～8h之间。

6、如权利要求5所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：所述铝片第二次阳极氧化的电解液为硫酸，其对应电压为18～25V；电解液为草酸，其对应电压为30～50V；电解液为磷酸，其对应电压为100～150V。

7、如权利要求1所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：所述的贱金属片为铝、铜、铁。

8、如权利要求1-6任一项所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：所述的阴极、阳极均为多个，采用导线分别并联控制对铝片进行阳极氧化。

9、如权利要求5所述的制备有序多孔氧化铝模板的方法，其特征在于：所述阳极氧化过程中，采用搅拌设备对电解液进行搅拌。

10、一种制备有序多孔氧化铝模板的装置，其特征在于：其为槽结构，两侧设有若干对小孔，两侧小孔内分别放置与电源连接的阴极和阳极对，阳极、阴极分别并联控制，槽内容纳电解液。

11、如权利要求9所述的制备有序多孔氧化铝模板的装置，其特征在于：所述槽结构为长方体形，其采用有机玻璃制作，或者采用具有一定机械强度和化学稳定性的高分子材料。

12、如权利要求9所述的制备有序多孔氧化铝模板的装置，其特征在于：其还包括搅拌设备，其在反应过程中对电解液进行搅拌。