[发明专利]大口径ZnS红外窗口的镀膜方法有效
| 申请号： | 200910055158.8 | 申请日： | 2009-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101956157A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 周东平;赵培 | 申请（专利权）人： | 上海欧菲尔光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24;C23C14/18 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 杨元焱 |
| 地址： | 200434 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 口径 zns 红外 窗口 镀膜 方法 | ||
1.一种大口径ZnS红外窗口的镀膜方法，其特征在于，包括以下措施和步骤：
a、清洁ZnS窗口，去除表面的油渍与灰尘；
b、在ZnS窗口的一个面镀制一层传热工艺膜；
c、清洁ZnS窗口的另一个面，去除表面的油渍与灰尘；
d、在ZnS窗口的已清洁的面镀制按要求设计的一层或多层光学薄膜；
e、利用去膜液去除ZnS窗口的传热工艺膜；
f、在ZnS窗口已镀的光学薄膜上镀制一层传热工艺膜；
g、清洁ZnS窗口未镀膜面，去除表面的油渍与灰尘；
h、在ZnS窗口的未镀膜面镀制按要求设计的一层或多层光学薄膜；
i、利用去膜液去除ZnS窗口的传热工艺膜；
j、清洁ZnS窗口。
2.如权利要求1所述的大口径ZnS红外窗口的镀膜方法，其特征在于：
所述的传热工艺膜为金属薄膜，选用铝、金、银、铬、镍、铂、铊或铜等材料中的一种真空蒸镀形成，厚度为50nm-2um。
3.如权利要求1所述的大口径ZnS红外窗口的镀膜方法，其特征在于：
所述的光学薄膜采用ZnS与YbF3、Ge中的一种或两种物质交替使用蒸镀形成，蒸镀工艺条件为：
温度：80℃～200℃；
恒温时间：0.5小时～3小时；
ZnS蒸发速率：0.6～1.2nm/s，Ge蒸发速率：0.7～1.5nm/s，YbF3蒸发速率：0.7～1.5nm/s；
离子源清洁参数：阳极电压60～180V，阳极电流0.5～5A，时间5～15分钟。
4.如权利要求1所述的大口径ZnS红外窗口的镀膜方法，其特征在于：所述的光学薄膜包括增透膜、分光膜、截止膜和带通滤光片。
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