[发明专利]熔石英光栅脉冲压缩器无效
申请号: | 200910054511.0 | 申请日: | 2009-07-08 |
公开(公告)号: | CN101609241A | 公开(公告)日: | 2009-12-23 |
发明(设计)人: | 周常河;曹红超;冯吉军;贾伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35;G02B5/18 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 石英 光栅 脉冲 压缩器 | ||
技术领域
本发明涉及脉冲压缩器,特别是一种800纳米波长的熔石英光栅脉冲压缩器。
背景技术
在飞秒激光领域,光学脉冲压缩器是一种关键的光学元件,它可以将长光脉冲压缩成超短光脉冲。大多数应用中,人们往往需要高衍射效率、较大的角度色散、较宽波长范围和角度带宽、体积小的脉冲压缩器。传统的光学脉冲压缩器是由一些棱镜对、啁啾镜或者光栅对构成的。但是,利用棱镜对构成的脉冲压缩器的体积通常很大,不利于整个激光系统的小型化;啁啾镜和传统的反射式光栅对可以节约系统空间,但是,啁啾镜价格昂贵,而反射式光栅对限制了通光口径。为解决这一问题,Wei Jia等人在熔石英上制作了高衍射效率的透射式光栅,其-1级的衍射效率理论上可达98%。而且,这种透射式光栅对光脉冲压缩器的尺寸非常小(通常只有几个毫米)从而大大的减小了整个激光器系统的尺寸【在先技术1:W.Jia etal.,Appl.Opt.47,6058(2008)】。
熔融石英是一种理想的光栅材料,它具有高光学质量:稳定的性能、高损伤阈值和从深紫外到远红外的宽透射谱。因此,刻蚀高密度深刻蚀熔融石英光栅作为新型脉冲压缩器具有广泛的应用前景。
矩形深刻蚀光栅是利用微电子深刻蚀工艺,在基底上加工出的具有较深槽形的光栅。由于表面刻蚀光栅的刻蚀深度较深,所以衍射性能类似于体光栅,具有体光栅的布拉格衍射效应,这一点与普通的表面浅刻蚀平面光栅完全不同。高密度矩形深刻蚀光栅的衍射理论,不能由简单的标量光栅衍射方程来解释,而必须采用矢量形式的麦克斯韦方程并结合边界条件,通过编码的计算机程序精确地计算出结果。Moharam等人已给出了严格耦合波理论的算法【在先技术2:M.G Moharam et al.,J.Opt.Soc.Am.A.12,1077(1995)】,可以解决这类高密度光栅的衍射问题。但据我们所知,目前为止,还没有人针对常用800纳米波长给出在同一熔融石英基片上制作透射式脉冲压缩器的设计参数。
发明内容
本发明要解决的技术问题是针对常用800纳米波长的激光器提供一种800纳米波长的熔石英光栅脉冲压缩器,该压缩光栅可以使TM偏振光在1级布拉格入射角的情况下的-1级衍射效率均高于97%,而且该双面结构的压缩光栅对更有利于整个激光系统的小型化。
本发明的技术解决方案如下:
一种用于800纳米波段的熔石英光栅脉冲压缩器,其特点是在一块熔石英的两面对称地刻蚀光栅而构成,该光栅的周期为720~780纳米、刻蚀深度为1.8~1.9微米,光栅的占空比为0.45~0.65。
所述的光栅的周期为750纳米,光栅的刻蚀深度为1.857微米时最佳。
本发明的依据如下:
图1显示了本发明双面对称熔融石英光栅脉冲压缩器的几何结构。区域1、2都是均匀的,分别为空气(折射率n1=1)和熔融石英(折射率n2=1.45)。光栅矢量K位于入射平面内。TM偏振入射光对应于磁场矢量的振动方向垂直于入射面。线性偏振的光波以一定角度θi=sin-1(λ/(2*Λ*n1)入射(定义为1级Bragg条件),λ代表入射波长,Λ代表光栅周期。
在如图1所示的光栅结构下,本发明采用严格耦合波理论【在先技术2】计算了矩形熔融石英光栅(占空比为0.5)在800纳米波段衍射效率。由于该光栅对脉冲压缩器的结构是对称的,利用模式理论【在先技术3:J.Zheng et al.,J.Opt.Soc.Am.A.25,1075(2008)】可以证明光栅I和光栅II具有相同的衍射效率分布。因此在以下的理论计算中我们只计算光栅I的衍射效率如图2所示,依据理论计算得到高衍射效率矩形光栅的数值优化结果,即当光栅的周期为720-780纳米、刻蚀深度为1.8-1.9微米时,光栅I在-1级的衍射效率大于97%。
如图3所示,光栅的周期为750纳米,深度为1.857微米,若考虑800纳米附近TM偏振模式的入射光以对应的1级Bragg角度入射到光栅时,该光栅在750-850纳米波长范围内所有波长的-1级衍射效率均可以达到90%以上,即对应于100纳米的谱宽范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910054511.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高效率产生紫外飞秒脉冲激光的方法
- 下一篇:进行间歇受电的车辆用控制装置