[发明专利]一种可烘弯低辐射镀膜玻璃有效

专利信息
申请号: 200910054331.2 申请日: 2009-07-02
公开(公告)号: CN101585667A 公开(公告)日: 2009-11-25
发明(设计)人: 尚贵才;丁杰;陈绍木 申请(专利权)人: 福耀集团(上海)汽车玻璃有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 代理人: 赵志远
地址: 201814上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 可烘弯低 辐射 镀膜 玻璃
【权利要求书】:

1.一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,该可烘弯低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外依次为:玻璃基板、过渡层、第一电介质层、低辐射层、第二电介质层及保护层;所述的第一电介质层为ZnSnOx/TiOy膜层结构,ZnSnOx膜层厚度为30-40nm,TiOy膜层厚度为1.5-3nm;所述的第二层电介质层为TiOy/ZnSnOx膜层结构,TiOy膜层厚度为1.5-3nm,ZnSnOx膜层厚度为30-40nm。

2.根据权利要求1所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的过渡层为SiOmNn膜层,厚度为5-15nm。

3.根据权利要求2所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的SiOmNn膜层中,0<m≤2、0<n≤4/3,2m+3n<4。

4.根据权利要求1所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的ZnSnOx膜层中,0<x≤3,TiOy膜层中,0<y≤2。

5.根据权利要求1所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的低辐射层为银膜层,厚度为9-13nm。

6.根据权利要求1所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的保护层为SiaNb膜层,厚度为10-15nm。

7.根据权利要求6所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的SiaNb膜层中,0<a≤3,0<b≤4,a/b≥3/4。

8.根据权利要求1所述的一种可烘弯低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述的可烘弯低辐射镀膜玻璃的保护层外再依次叠加聚乙烯醇缩丁醛层及另一玻璃基板构成低辐射镀膜夹层玻璃。 

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