[发明专利]相干阵列激光逆达曼光栅合束孔径装填装置有效
| 申请号: | 200910053422.4 | 申请日: | 2009-06-19 | 
| 公开(公告)号: | CN101592783A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 | 
| 发明(设计)人: | 闫爱民;刘立人;戴恩文;孙建锋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 
| 主分类号: | G02B27/44 | 分类号: | G02B27/44;G02B5/18;H01S5/40;H01S3/23 | 
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 | 
| 地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 相干 阵列 激光 逆达曼 光栅 孔径 装填 装置 | ||
1.一种相干阵列激光逆达曼光栅合束孔径装填装置,其特征在于该装置依次由同轴的锁相相干的激光阵列(11)、谱分布相位板(12)、傅立叶变换透镜(13)和逆达曼光栅(14)构成,所述的谱分布相位板是依据达曼光栅在傅立叶谱面上光场的相位分布制作成的相位板,所述的逆达曼光栅的相位分布是达曼光栅的相位分布的复数共轭,所述的谱分布相位板(12)和逆达曼光栅(14)分别放置于所述的傅立叶变换透镜(13)的物面和频谱面上。
2.根据权利要求1所述的相干阵列激光逆达曼光栅合束孔径装填装置,其特征在于所述的锁相相干的激光阵列(11)是由激光二极管阵列、光纤激光阵列、固体激光器阵列或气体激光器阵列产生的激光阵列。
3.根据权利要求1所述的相干阵列激光逆达曼光栅合束孔径装填装置,其特征在于所述的锁相相干的激光阵列为一维周期阵列,或二维周期结构阵列。
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