[发明专利]一种防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的方法有效

专利信息
申请号: 200910052796.4 申请日: 2009-06-09
公开(公告)号: CN101635258A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 李黎明;郭国超;王健鹏 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L21/3105 分类号: H01L21/3105
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 郑 玮
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 防止 新鲜 高温 氧化 表面光 致抗蚀剂翘曲 方法
【权利要求书】:

1.一种防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的方法,其包括如下步骤:

提供待加工晶圆;

加热晶圆使晶圆表面形成高温氧化表面;

使用甲基二硅胺对晶圆表面进行蒸镀;

涂布光致抗蚀剂;

其特征在于:在加热晶圆形成高温氧化表面后,在使用甲基二硅胺对晶圆 表面进行蒸镀之前,还包括:将晶圆在水中进行浸泡并且烘干晶圆。

2.根据权利要求1中所述的防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的方法, 其特征在于所述将晶圆在水中进行浸泡,以使高温氧化表面变为亲水性状 态,时长为60秒。

3.根据权利要求1或2中所述的防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的 方法,其特征在于所述加热晶圆使晶圆表面形成高温氧化表面的步骤中将 晶圆放置于炉管中,充入反应气体,反应温度为800度。

4.根据权利要求3中所述的防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的方法, 其特征在于所述反应气体为SiH2Cl2和N2O。

5.根据权利要求1或2中所述的防止新鲜高温氧化表面光致抗蚀剂翘曲的 方法,其特征在于使用甲基二硅胺对晶圆表面进行蒸镀的步骤中反应腔温 度保持在110度,蒸镀时间约为36秒。

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