[发明专利]一种光刻曝光剂量控制装置与方法

权利要求书

1.一种光刻曝光剂量控制装置，其特征是，包括：

测量单元，用于实时测量光强分布，并输出实测信号；

控制单元，耦接所述测量单元，接收所述实测信号，进行运算并输出控制信号；以及狭缝刀片组，耦接所述控制单元，接收所述控制信号，并依据所述控制信号调整曝光区域大小；

承载单元，耦接所述控制单元，接收所述控制信号，并依据所述控制信号调整运动速度。

2.根据权利要求1所述的光刻曝光剂量控制装置，其特征在于，所述承载单元为掩模台，用于承载掩模，并驱动所述掩模运动。

3.根据权利要求1所述的光刻曝光剂量控制装置，其特征在于，所述承载单元为硅片台，用于承载硅片，并驱动所述硅片运动。

4.根据权利要求1所述的光刻曝光剂量控制装置，其特征在于，所述光强分布为光强分布轮廓。

5.根据权利要求1所述的光刻曝光剂量控制装置，其特征在于，所述装置还包括激光器，用于提供激光脉冲信号。

6.根据权利要求5所述的光刻曝光剂量控制装置，其特征在于，所述装置还包括分光器，耦接所述测量单元，用于分出部分的所述激光脉冲信号，并投影到所述测量单元进行测量。