[发明专利]基于双相机的不稳定基准平台姿态测量方法有效
| 申请号: | 200910044223.7 | 申请日: | 2009-08-31 |
| 公开(公告)号: | CN101655361A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
| 发明(设计)人: | 于起峰;张小虎;王颖;高昕;孙祥一;李玉广;周剑 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号: | G01B11/26 | 分类号: | G01B11/26 |
| 代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人: | 马 强;鲍子玉 |
| 地址: | 410073*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 相机 不稳定 基准 平台 姿态 测量方法 | ||
1.一种基于双像机的不稳定基准平台姿态测量方法,其特征是,包括步骤:
a.在基准平台上刚性固定有两台呈夹角a设置的摄像机;且在摄像机前方分别固定有对应的合作标志,该合作标志在测量时始终在像机的视场内并且相对地面保持静止不动,其中0°<a<180°;
b.准确标定摄像机的内外参数;
c.摄像机对合作标志进行摄像测量,利用亚像素图像定位方法进行图像处理,跟踪所得图像中合作标志点的位置变化;
d.把图像标志点的位置变化转换成摄像机的偏转角,即得出固定放置了该摄像机的被测基准平台的姿态信息。
2.根据权利要求1所述基于双像机的不稳定基准平台姿态测量方法,其特征是,所述b步骤所述内外参数中,内部参数包括摄像机的光心和等效焦距;外部参数是包括摄像机的平移向量、旋转矩阵和旋转角。
3.根据权利要求1所述基于双像机的不稳定基准平台姿态测量方法,其特征是,所述合作标志为圆形、十字丝或对顶角形状中任意一种。
4.根据权利要求1所述基于双像机的不稳定基准平台姿态测量方法,其特征是,所述合作标志采用发光光源制作。
5.根据权利要求1所述基于双像机的不稳定基准平台姿态测量方法,其特征是,所述亚像素图像定位方法可采用自适应模板相关滤波法、自适应阈值重心法、灰度图拟合法中任意一种。
6.根据权利要求1-5之一所述基于双像机的不稳定基准平台姿态测量方法,其特征是,摄像机采用数字摄像装置。
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