[发明专利]一种电路板的制作方法有效
| 申请号: | 200910041004.3 | 申请日: | 2009-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN101600298A | 公开(公告)日: | 2009-12-09 |
| 发明(设计)人: | 姜文东;汤科文 | 申请(专利权)人: | 皆利士多层线路版(中山)有限公司 |
| 主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 赵 磊;曾旻辉 |
| 地址: | 528415广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电路板 制作方法 | ||
1.一种电路板的制作方法,其特征在于:它包括压板、钻孔、沉铜、板电、外层干菲林、线电、外层蚀刻、镶嵌、表面处理工序,其中:
压板工序中,包括热压步骤和冷压步骤,其中热压时间为180min,系统抽真空绝压20000Pa(0.204Kgf/cm2),控制压板压力为5.265-25.207Kgf/cm2,温度为150-200℃,冷压时间为60min,压力控制132.6Kgf/cm2,温度为20℃;
钻孔工序中,控制钻咀转速为20000转/分钟,入板速度为10英寸/分钟,退板速度为100英寸/分钟;
板电工序中,控制CuSO4的浓度为60-90g/L,H2SO4浓度为180-220g/L,氯离子CL-浓度控制为40-70ppm,污染指数<0.12mA,ST-2000BST为10-30ml/L,ST-2000CST为0.15-1.0ml/L,电流偏差控制在±6%,温度控制在24-32℃,板电参数为24ASF/30min;
线电工序中,控制CuSO4的浓度为60-90g/L,H2SO4浓度为200-240g/L,氯离子CL-浓度控制为40-70ppm,污染指数<0.12mA,添加剂ST-2000BST为10-30ml/L,添加剂ST-2000CST为0.2-1.0ml/L,电流偏差控制在±5%,温度控制在24-32℃,线电参数为12.5ASF/115min;
镶嵌工序中,包括检查铜粒,定位铜粒和PCB板,压合铜粒与PCB板成一体,测量平整度以及外观全检步骤,其中定位铜粒和PCB板步骤中,控制压力10±0.5Kgf/cm2,时间10秒,在压合铜粒与PCB板成一体步骤中,控制压力为10±0.5Kgf/cm2,时间10秒。
2.一种电路板的制作方法,其特征在于:它包括压板、钻孔、沉铜、板电、外层干菲林、线电、外层蚀刻、镶嵌、表面处理工序,其中:压板工序中,包括热压步骤和冷压步骤,其中热压时间为180min,系统抽真空绝压20000Pa(0.204Kgf/cm2),热压30分钟后,压板压力从5.265Kgf/cm2升至25.207Kgf/cm2,并保持到105分钟后降低压板压力至3.601Kgf/cm2,温度为150-200℃,冷压时间为60min,压力控制132.6Kgf/cm2,温度为20℃;钻孔工序中,控制钻咀转速为20000转/分钟,入板速度为10英寸/分钟,退板速度为100英寸/分钟;
板电工序中,控制CuSO4的浓度为60-90g/L,H2SO4浓度为180-220g/L,氯离子CL-浓度控制为40-70ppm,污染指数<0.12mA,ST-2000BST为10-30ml/L,ST-2000CST为0.15-1.0ml/L,电流偏差控制在±6%,温度控制在24-32℃,板电参数为24ASF/30min;
线电工序中,控制CuSO4的浓度为60-90g/L,H2SO4浓度为200-240g/L,氯离子CL-浓度控制为40-70ppm,污染指数<0.12mA,添加剂ST-2000BST为10-30ml/L,添加剂ST-2000CST为0.2-1.0ml/L,电流偏差控制在±5%,温度控制在24-32℃,线电参数为12.5ASF/115min;
镶嵌工序中,包括检查铜粒,定位铜粒和PCB板,压合铜粒与PCB板成一体,测量平整度以及外观全检步骤,其中定位铜粒和PCB板步骤中,控制压力10±0.5Kgf/cm2,时间10秒,在压合铜粒与PCB板成一体步骤中,控制压力为10±0.5Kgf/cm2,时间10秒。
3.根据权利要求1或2所述的一种电路板的制作方法,其特征在于:所述钻孔工序中,每个钻孔由所述钻咀分三次钻成,三次钻进深度的比例为30%∶30%∶40%。
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