[发明专利]一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品

说明书

技术领域

本发明涉及一种陶瓷釉及其应用技术。

背景技术

传统陶瓷以白色为主，釉面只采用硅酸锆起白色作用，并无其他 功能，而且传统陶瓷釉面在放大镜下是凹凸不平的，使得污垢、细菌 易于躲藏、繁殖；后来，在传统陶瓷烧制成品后，加入后期涂膜热处 理，没有经过高温烧制，涂膜稳定性差，易剥落，最终失去了防污抗 菌效果。

中国发明专利ZL02125311.0公开了一种具有纳米自洁釉面的卫 生洁具，其特点在于面釉含有Ag₂O₃和ZnO纳米复合抗菌剂，而且 是通过两次施釉、一次烧制成所需的卫生洁具。该发明的卫生洁具， 由于面釉含纳米复合材料，其微观区域均匀，表面光滑，具有抗污抗 菌功能。但该发明由于必须通过两次施釉，成本较高。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术上的不足，提供一种具有自洁抗菌 功能的陶瓷釉。

本发明的自洁抗菌陶瓷釉，最主要的特点是含有Ti元素和Ag 元素。其具体组成为：SiO₂ 52～72％、Al₂O₃ 5～9％、CaO 6～10％、K₂O 2～6％、Na₂O 0.5～1.5％、ZnO 0.5～3％、Li₂O 1～3％、TiO₂ 4～8％、V₂O₅ 1～3％、Ag₂O₃ 1～5％。百分数均为重量百分数。

本发明的另一个目的是提供上述自洁抗菌陶瓷釉的制备方法，包 括如下步骤：

(1)将钾长石37～45重量％，大理石10～15重量％，硅石35～40 重量％，抗菌剂2～4重量％和钛白粉5～8重量％混合均匀，磨碎；所 述抗菌剂的成分为Ag₂O₃；

(2)采用振动筛过滤，除铁；

(3)除铁后再经2～4天时间沉污，使杂质沉在底层，经过滤后， 制得自洁抗菌陶瓷釉。

本发明的进一步目的是提供利用上述自洁抗菌陶瓷釉制备得到 的陶瓷产品。

在现有的陶瓷产品的陶瓷本体表面烧制一层自洁抗菌陶瓷釉，即 可得到具有自洁抗菌功能的陶瓷产品。烧制的温度优选为1200～1270 ℃。

与现有技术相比，本发明的优点和有益效果是：

(1)本发明的自洁抗菌陶瓷釉由于加入了钛元素后，钛金属高 温后浮上，填补了传统陶瓷釉的针孔。在釉层特定分子经高温排列后， 令光谱的频率产生跳跃，原子电子层产生变化，吸收空气中的负电子， 产生了一层肉眼看不到的，带负电子的氢氧根离子隔离保护层，也就 形成了氧化钛的光触媒作用，去污、抗菌能力得到了发挥，也具有一 定的氢氧根离子抗菌能力。

(2)本发明的自洁抗菌陶瓷釉由于加入银元素，杀菌能力大增， 具有双重抗菌杀菌作用，并永久作用于产品的釉面，因而具有防污、 抗菌、自洁功能。

(3)本发明的自洁抗菌陶瓷釉配方，适合于采用一次施釉工艺， 不单简化了制作工艺，还降低了成本。

(4)本发明的自洁抗菌陶瓷釉烧制在陶瓷本体表面后，釉面平 整度高，晶质细致紧密、光洁度好、无针孔、玻璃感极柔极佳，触摸 感觉非常平滑。

附图说明

图1为现有传统陶瓷产品釉面电子显微镜图；

图2为实施例1所述陶瓷产品釉面电子显微镜图。

具体实施方式

实施例1

按以下配比准备陶瓷釉料：钾长石39％，大理石11％，硅石38％， 抗菌剂4％，钛白粉8％。均为重量百分比。

(1)将钾长石、大理石、硅石、抗菌剂和钛白粉经球磨机混合， 在球磨机中磨20个小时；

(2)均匀混合后，再经3次振动筛过滤、除铁；