[发明专利]一种高精度控制废蚀刻液内各离子浓度提铜的方法

说明书

技术领域：

本发明涉及印制板厂蚀刻废液的处理技术领域，特指一种在废蚀刻液内提铜的方法。

背景技术：

生产中，通常需要对废蚀刻液进行循环再生，以节约成本和能源，减少排污。现有蚀刻液处理方式有多种，但存在有效率低、工艺复杂，生产成本高的缺陷。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种高精度控制各离子浓度以提取金属铜，且余液得以循环再生的方法。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种高精度控制废蚀刻液内各离子浓度提铜的方法，先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为：铜离子：20-50g/L，氯离子：150-170g/L，PH值：8.0-9.5，且回用再生液，循环提铜。

电解槽阴阳极距在20-50mm之间，可调；电流密度范围在100-1000A/m²。

再生液内各离子浓度控制范围在：氯离子：160-175g/L，PH值控制在9.8-10.2。

本发明通过高精度控制废蚀刻液内各离子浓度直接电解法提铜，处理方法简单，易操作，生产成本低，且能按照工艺要求高精度控制再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现对废蚀刻液进行循环再生使用，节约成本和能源，减少排污，提升环境效益、经济效益和社会效益。

附图说明：

附图1为本发明的实施原理图。

具体实施方式：

以下结合附图对本发明进一步说明：

参阅图1所示，本发明先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为：铜离子：20-50g/L，氯离子：150-170g/L，PH值：8.0-9.5，提铜后所得的余液经过回用再生使用，用于循环提铜操作。

本发明中，电解槽阴阳极距在20-50mm之间，可调；电流密度范围控制在100-1000A/m²。再生液内各离子浓度控制范围在：氯离子：160-175g/L，PH值控制在9.8-10.2。

本发明的工作原理如下：

铜离子的氧化性在铜离子浓度为20-50g/L，氯离子浓度为：150-170g/L，PH值为：8.0-9.5的条件下很微弱，即此时蚀刻液的蚀刻性能最弱，在这种情况下外加电场直接电解即可提出金属铜，将金属铜从混合液中释出。提铜后的余液经过高精度控制回用再生液调配装置中进行调配处理，以控制再生液内各离子浓度控制范围，如氯离子：165g/L或170g/L，PH值控制在10，从而能按照工艺要求高精度控制再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现废蚀刻液进行循环再生使用。

实施例1：

通过高精度控制各离子浓度装置将废蚀刻液内各离子浓度为：铜离子：25g/L，氯离子：160g/L，PH值：9，这时外加电场直接电解即可提出金属铜(即在电解槽中进行)，正价铜离子获得电子还原为零价铜，从而实现提铜。提铜后的余液经过高精度控制回用再生液调配装置中进行调配处理，以控制再生液内各离子浓度控制范围，如氯离子：168g/L，PH值控制在10.1，从而能按照工艺要求高精度控制再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现废蚀刻液进行循环再生使用。

本发明的优势为：工艺简捷，不用外加任何辅助试剂即可提取金属铜，较少耗材，设备制作成本低。