[发明专利]曝光焦点的监控方法

权利要求书

1.一种曝光焦点的监控方法，包括：

在预定离焦距离的范围内，以任选的离焦距离形成至少两个曝光图形；

分别测量所述各曝光图形的顶部宽度与底部宽度；

计算所述各曝光图形的顶部宽度与底部宽度的差值；

根据所述差值与对应的离焦距离计算预定的系数。

2.如权利要求1所述的曝光焦点的监控方法，其特征在于：所述预定的离焦范围系根据需进行曝光焦点监控的离焦范围而定。

3.如权利要求1所述的曝光焦点的监控方法，其特征在于：所述曝光图形的数量多于两个。

4.如权利要求3所述的曝光焦点的监控方法，进一步包括：

分别测量所述各曝光图形的顶部宽度与底部宽度；

计算各曝光图形的所述顶部宽度与对应的底部宽度的差值；

计算所述差值中至少两个差值的平均值；

任取至少两个所述平均值或所述差值以计算所述预定的系数。

5.如权利要求1所述的曝光焦点的监控方法，其特征在于，所述根据所述差值与对应的离焦距离计算预定的系数的步骤包括：

将所述差值与对应的离焦距离代入预定的以所述预定的系数为变量的方程组；

求解所述方程组中的所述系数。

6.如权利要求5所述的曝光焦点的监控方法，其特征在于：所述方程组可表示为：其中L₁、L₂为所述任选的离焦距离，Δ₁、Δ₂为与所述离焦距离相应的差值，a、b分别为所述系数。

7.如权利要求1所述的曝光焦点的监控方法，其特征在于：所述预定的系数由下列公式求得：

a=Δ2-Δ1L2-L1b=L1Δ2-L2Δ1L1-L2;]]>

其中L₁、L₂为所述离焦距离，Δ₁、Δ₂为与所述离焦距离相应的差值，a、b分别为所述系数。

8.如权利要求1所述的曝光焦点的监控方法，进一步包括：将所得系数代入预定的线性方程，以确定离焦距离与曝光图形的宽度差值之间的线性关系。

9.如权利要求8所述的曝光焦点的监控方法，其特征在于：所述预定的线性方程表示为：其中a、b分别为所述系数，Δ为所述待监控差值；L为所述监控离焦距离。

10.如权利要求8所述的曝光焦点的监控方法，进一步包括：

形成待监控曝光图形；

测量所述待监控曝光图形的顶部宽度与底部宽度；

根据所述待监控曝光图形的顶部宽度与底部宽度计算其待监控差值；

将所述待监控差值代入所述线性方程以求得与所述差值相对应的监控离焦距离。