[发明专利]用于PDP显示的光转换纳米薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于PDP显示的光转换纳米薄膜，其特征在于，所述光转换纳米薄膜包含柔性有机底材料层、中间过渡层、上转换发光层，柔性有机底材料层上设有中间过渡层，中间过渡层上设有上转换发光层，上转换发光层为合成物40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃与橙色光吸收染料掺杂后制成的复合材料。

2.如权利要求1所述的用于PDP显示的光转换纳米薄膜，其特征在于，所述光转换纳米薄膜的厚度在10nm～30nm之间。

3.如权利要求1所述的用于PDP显示的光转换纳米薄膜，其特征在于，所述的柔性有机底材料层为聚对苯二甲酸乙二酯，厚度为0.1mm～0.15mm，透光率大于98％，雾化率小于5％。

4.如权利要求1所述的用于PDP显示的光转换纳米薄膜，其特征在于，所述的橙色光吸收染料为四叔丁基四氮杂卟啉钴、四叔丁基四氮杂卟啉铅或乙基紫中的任意一种。

5.如权利要求1所述的用于PDP显示的光转换纳米薄膜，其特征在于，中间过渡层的层数为1～20。

6.用于制备如权利要求1所述的PDP显示的光转换纳米薄膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

第一步，制备柔性有机底材料：将聚对苯二甲酸乙二酯材料的一面做硬化处理，使处理后的表面硬度符合ASTM-D-1044标准，在硬化处理好的那面上设有1～20层过渡层；

第二步，制备靶材：将40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃合成物与橙色光吸收染料按质量比1∶50混合掺杂制备成靶或者将40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃合成物与橙色光吸收染料分别制备成靶；

第三步，磁控溅射：利用第二步制备的靶材料，在磁控溅射炉内，先抽真空大于10^-3pa后，充入Ar气体后保持工作气压在5×10^-2Pa，在第一步制备的柔性有机底材料的过渡层上镀膜，也就是制备上转换发光层，沉积速率控制为0.1nm/s，控制光转换纳米薄膜的厚度为10nm～30nm。

7.如权利要求6所述的用于PDP显示的光转换纳米薄膜的制备方法，其特征在于，第二步中，40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃合成物与橙色光吸收染料按质量比1∶50混合掺杂制备靶的具体方法为：按40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃合成物与橙色光吸收染料质量比1∶50的比例取橙色光吸收染料和40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃，放入按橙色光吸收染料与去离子水质量比1∶4的比例放入去离子水，超声分散15min后，加热至沸腾恒温30min，过滤洗净，放入坩锅在马弗炉中以2℃/min的速度升温，加热到500℃并保温3h，冷却成型后得到40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃合成物与橙色光吸收染料按质量比1∶50混合掺杂制备的靶材。

8.如权利要求6所述的用于PDP显示的光转换纳米薄膜的制备方法，其特征在于，第二步中，40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃合成物的制备的具体方法为：将CdF₂、BaF₂、Er₂O₃按摩尔比40∶60∶1.6的比例研磨后，混合均匀，将混合物粉末放入烧结炉中加热至1000℃烧结10min后经退火得到合成物40CdF₂·60BaF₂·1.6Er₂O₃。