[发明专利]绝缘体上硅材料的平板显示器驱动芯片及制备方法有效
申请号: | 200910032750.6 | 申请日: | 2009-06-19 |
公开(公告)号: | CN101587901A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 孙伟锋;陈越政;钱钦松;夏晓娟;吴虹;时龙兴 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/06;H01L21/84;H01L21/76;H01J17/49 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陆志斌 |
地址: | 21009*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘体 材料 平板 显示器 驱动 芯片 制备 方法 | ||
1.一种显示器驱动芯片,包括P型衬底(9),在P型衬底(9)上设有埋 氧层(7),在埋氧层(7)上设有高压P型横向金属氧化物半导体管(1)、高压 N型横向金属氧化物半导体管(2)、高压二极管(3)和低压器件(4),其特征 在于高压P型横向金属氧化物半导体管(1)与高压N型横向金属氧化物半导体 管(2)相邻且高压P型横向金属氧化物半导体管(1)的漏端与高压N型横向 金属氧化物半导体管(2)的源端相邻,高压二极管(3)位于高压N型横向金 属氧化物半导体管(2)与低压器件(4)之间,在高压P型横向金属氧化物半导 体管(1)一侧设有第一双槽结构,在高压P型横向金属氧化物半导体管(1)另 一侧与高压N型横向金属氧化物半导体管(2)之间设有第二双槽结构,在高压 N型横向金属氧化物半导体管(2)与高压二极管(3)之间设有第三双槽结构, 在高压二极管(3)与低压器件(4)之间设有第四双槽结构,在低压器件(4) 内部没有槽结构隔离,在低压器件(4)另一侧设有第五双槽结构,第一双槽结 构由平行设置的第一氧化隔离层(91A)和第二氧化隔离层(91B)组成,第二 双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(92A)和第二氧化隔离层(92B)组成, 第三双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(93A)和第二氧化隔离层(93B) 组成,第四双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(94A)和第二氧化隔离层 (94B)组成,第五双槽结构由平行设置的第一氧化隔离层(95A)和第二氧化 隔离层(95B)组成。
2.根据权利要求1所述的显示器驱动芯片,其特征在于高压P型横向金属 氧化物半导体管(1)包括N型外延层(81),在N型外延层(81)内设有P型 漂移区(11)、漏端P型重掺杂阱(17)及N型重掺杂阱(18),在P型漂移区 (11)上设有源端P型重掺杂阱(13),在外延层(81)及P型漂移区(11)上 的源端P型重掺杂阱(13)、漏端P型重掺杂阱(17)及N型重掺杂阱(18)以 外的区域设有栅氧化层(12)和场氧化层(5)且栅氧化层(12)位于源端P型 重掺杂阱(13)与漏端P型重掺杂阱(17)之间,在栅氧化层(12)的与漏端P 型重掺杂阱(17)相邻的鸟嘴下方设有P型阱(16),在源端P型重掺杂阱(13) 与P型阱(16)之间的栅氧化层(12)上方设有多晶硅栅极(15),在场氧化层 (5)、栅氧化层(12)、源端P型重掺杂阱(13)、多晶硅栅极(15)、漏端P型 重掺杂阱(17)及N型重掺杂阱(18)的上方设有二氧化硅氧化层(6),在源 端P型重掺杂阱(13)、多晶硅栅极(15)、漏端P型重掺杂阱(17)及N型重 掺杂阱(18)上分别连接有金属引线,在二氧化硅氧化层(6)上设有金属场板 (14)且金属场板(14)位于与源端P型重掺杂阱(13)相邻的多晶硅栅极(15) 端部上方,在P型漂移区(11)的下方设有P型重掺杂埋层(10)且P型重掺 杂埋层(10)位于源端P型重掺杂阱(13)的下方,所述P型重掺杂埋层(10) 始于P型漂移区(11)并止于埋氧层(7)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的