[发明专利]自身可产生干涉条纹的光弹模型无效
| 申请号： | 200910032408.6 | 申请日： | 2009-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101593442A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 张志军;曹露春 | 申请（专利权）人： | 徐州工程学院 |
| 主分类号： | G09B23/10 | 分类号： | G09B23/10;G01L1/24 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221009*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 自身 产生 干涉 条纹 模型 | ||
【权利要求书】：
1、一种自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：包括根据受力物体的实际形状、用聚碳酸酯材料制作的和受力物体形状相同或相似的模型试件，在模型试件的前后两面紧密的附着有偏光膜层。
2、根据权利要求1所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：所述偏光膜层的膜材料是掺杂碘分子的高分子聚合物。
3、根据权利要求1所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：所述偏光膜层的膜材料是掺杂碘分子的聚乙烯醇。
4、根据权利要求1所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：偏光膜层是将偏光膜用透明胶紧密的粘贴在模型试件的前后两面上。
5、根据权利要求1或4所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：偏光膜层是将偏光膜用环氧树脂胶紧密的粘贴在模型试件的前后两面上。
6、根据权利要求1所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：偏光膜厚度为0.04毫米-0.40毫米。
7、根据权利要求1所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：偏光膜大小布满模型试件的前后两面。
8、根据权利要求1所述的自身可产生干涉条纹的光弹模型，其特征是：所述的模型试件的大小根据实验条件可各方向同比例放大或缩小。
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