[发明专利]一种大功率半导体激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910020854.5 申请日: 2009-01-09
公开(公告)号: CN101465516A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 刘兴胜 申请(专利权)人: 西安阿格斯光电科技有限公司
主分类号: H01S5/02 分类号: H01S5/02;H01S5/024;H01S5/022
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 汪人和
地址: 710119陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 大功率 半导体激光器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种大功率半导体激光器,包括铜支撑块(1)、正极铜片(4)、负极铜片(9)和芯片(5),其特征在于:所述铜支撑块(1)的一边侧面上设有台阶(12),铜支撑块(1)两端还各设有一个凸台(11),所述凸台(11)上垂直开设有螺孔(2),所述芯片(5)的正极面与陶瓷片(3)上侧面的中部焊接,陶瓷片(3)的下侧面贴在铜支撑块(1)的两凸台(11)之间,所述正极铜片(4)和负极铜片(9)的内端分别焊接有正极陶瓷片(7)和负极陶瓷片(6),所述正极陶瓷片(7)和负极陶瓷片(6)分别焊接在铜支撑块(1)的台阶(12)上,所述芯片(5)的负极贴有铜连接片(8),所述铜连接片(8)的一端还与正极铜片(4)的一端贴合,所述陶瓷片(3)与负极铜片(9)间采用金丝(10)压焊。

2.根据权利要求1所述的大功率半导体激光器,其特征在于:所述陶瓷片(3)的上下两面均镀有金层,所述金层厚度为2-5微米。

3.根据权利要求1所述的大功率半导体激光器,其特征在于:所述芯片(5)为单管芯片、微型巴条或者由多个单管芯片并联组成。

4.一种权利要求1所述大功率半导体激光器的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:

1)首先准备铜支撑块(1)、陶瓷片(3)、负极陶瓷片(6)、正极陶瓷片(7)、负极铜片(9)、正极铜片(4)和铜连接片(8);

2)将陶瓷片(3)用有机溶液和去离子水清洗干净,烘干后在陶瓷片(3)的上下两面镀金,金层厚度为2-5微米,将镀金后的陶瓷片(3)放入氮气柜中储存;

3)利用金锡焊料将芯片(5)的正极贴在镀金的陶瓷片(3)上,其中芯片(5)的发光腔面与陶瓷片(3)的长边侧面平齐,芯片(5)的发光方向与陶瓷片(3)的长边垂直;

4)在正极陶瓷片(7)的一面镀铟膜,负极陶瓷片(6)的一面镀铟膜,铜连接片(8)的一面镀铟膜,将正极铜片(4)和正极陶瓷片(7)镀铟膜的一面焊接在一起,将负极铜片(9)和负极陶瓷片(6)镀铟膜的一面焊接在一起;

5)将焊接好的正极铜片(4)和正极陶瓷片(7)以及焊接好的负极铜片(9)和负极陶瓷片(6)一起焊接在铜支撑块(1)上的台阶上,正极铜片(4)和负极铜片(9)之间保持0.5-1mm的距离,以防短路;

6)将贴有芯片(5)的镀金陶瓷片(3)放置在铜支撑块(1)上的两个凸台(11)之间;

7)将铜连接片(8)镀有铟膜一面的一端贴在芯片(5)的负极上,另一端贴在正极铜片(4)上;

8)用回流焊将陶瓷片(3)、铜支撑块(1)、铜连接片(8)和正极铜片(4)焊接在一起;

9)最后用金丝(10)压焊在陶瓷片(3)和负极铜片(9)的一端,将它们连接在一起,制成大功率半导体激光器。

5.根据权利要求4所述的大功率半导体激光器的制备方法,其特征在于:步骤5)中所述正极陶瓷片(7)和负极陶瓷片(6)与铜支撑块(1)用导电胶粘合。

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