[发明专利]脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜的热处理方法无效

专利信息
申请号: 200910015090.0 申请日: 2009-05-08
公开(公告)号: CN101550543A 公开(公告)日: 2009-10-07
发明(设计)人: 陈传忠;王佃刚;于慧君;马杰 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C23C14/58 分类号: C23C14/58;C23C14/28;C23C14/06
代理公司: 济南圣达专利商标事务所有限公司 代理人: 王立晓
地址: 250061山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 脉冲 激光 沉积 羟基 磷灰石 生物 玻璃 复合 薄膜 热处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种复合薄膜的热处理方法,特别涉及脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜的热处理方法,属于无机非金属材料技术领域。

背景技术

羟基磷灰石(Hydroxyapatite,HA)是一种具有高度生物相容性和生物活性的陶瓷材料,其组分与人骨相同,成为目前临床应用最广泛的种植体薄膜材料之一。HA烧结体的强度和弹性模量都很高,但断裂韧性小,极易发生脆断,常利用表面涂覆技术在钛合金等金属基体制备HA薄膜,但HA与钛合金在热膨胀系数等力学性能上存在较大差异,容易产生裂纹。生物玻璃一般为CaO-SiO2-P2O5系统,如45S5生物玻璃,成分为SiO2:45%,Na2O:24.5%,CaO:24.5%,P2O5:6%,其生物活性好于HA,而其热膨胀系数低于HA,更接近于钛合金材料的热膨胀系数。因此在钛合金表面制备生物玻璃薄膜受到了人们越来越多的关注,但生物玻璃在体液中溶解太快,限制了其在临床上的应用。

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)生物薄膜,是利用脉冲激光器所产生的高功率激光束聚焦作用于靶体材料表面,使靶材表面温度迅速升高,并进一步产生高温高压等离子体(T≥104K),这种等离子体定向局域膨胀发射并在基体上沉积而形成薄膜,成膜过程中,衬底温度越低,薄膜的非晶化越严重。一般认为,衬底温度低于450℃时,利用PLD技术将会获得非晶薄膜。当薄膜处于非晶状态时,薄膜在体液中的溶解速度过快,会影响其在临床中的应用。

脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜既可以协调薄膜与基体的热膨胀系数,又能具有良好的生物活性,但其表面存在大量的球形和不规则形状的颗粒,当衬底温度低(如不高于200℃)时靶材中原有HA成分在沉积后仍旧以非晶的形式存在,影响薄膜性能。

发明内容

本发明的目的是克服上述不足而提供一种脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜的热处理方法,该种方法可提高非晶薄膜的结晶度,同时可以改善薄膜的组织结构并提高其性能。

本发明解决问题的技术方案是:

脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜的热处理方法,其特征是,将复合薄膜在普通箱式电阻炉上加热,加热速度为4℃/min~5℃/min,加热至600℃~800℃后保温,保温时间为1h~4h,然后随炉冷却。

所述的脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜的热处理方法,优选以下方案:将复合薄膜在普通箱式电阻炉上加热,加热速度为5℃/min,加热至700℃后保温,保温时间为2h,然后随炉冷却。

本发明的有益效果是:热处理后复合薄膜的结晶度提高,700℃热处理2h后薄膜中的HA呈现a轴取向,800℃热处理2h后薄膜中的HA呈现c轴取向;热处理导致薄膜与基体的结合力比原始薄膜的结合力大,600℃热处理1h后薄膜的临界载荷为17.5N。

附图说明

图1为600℃下热处理不同时间后复合薄膜的XRD图谱。

图2为不同热处理温度下处理2h后复合薄膜的XRD图谱。

图3为不同条件下热处理后复合薄膜的划痕测试结果。

具体实施方式

实施例1

脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜的制备:将高结晶的HA和非晶的45S5生物玻璃粉末按重量比1∶1混合,球磨后在240MPa的压力下,冷等静压的方法压成Φ25mm×3mm的薄片靶材,靶材压制后在600℃下热处理2h;将靶材和基体材料固定于反应室中烧蚀和沉积位置,调整基体与靶材之间的距离为5.5cm,采用分子泵对沉积室抽真空到5×10-5Pa,通过调整真空针阀通入氩气,压力为45Pa,通过电阻丝加热基体,加热速度为40℃/min,加热至温度为200℃,靶材以360r/h、基体以40r/h的速度旋转;启动激光器,激光烧蚀靶材,选用KrF激光器(波长248nm),激光器频率为5~10Hz,脉冲数目18000,激光输出能量为180~220mJ,能量密度为5J/cm2,激光束与靶材表面成45°角;沉积完成后,关闭加热器电源,基体温度降到100℃后,打开反应室,取出试样。

实施例2

将实施例1中的到的脉冲激光沉积羟基磷灰石-生物玻璃复合薄膜在普通箱式电阻炉上在600℃下热处理,保温1h时间,加热速度为5℃/min,然后随炉冷却。

实施例3

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