[发明专利]加工废液处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种加工废液处理装置，其附设在切削半导体晶片等被 加工物的切削装置等加工装置上，用于对加工时供给的加工液的废液进 行处理。

背景技术

在半导体器件制造工序中，在大致圆板形状的半导体晶片的表面上， 通过呈格子状排列的、称为间隔道的分割预定线划分有多个区域，在这 些划分出的区域中形成IC(Integrated Circuit：集成电路)、LSI(Large Scale Integration：大规模集成电路)等器件。然后，通过将半导体晶片沿着间 隔道切断，将形成有器件的区域分割开来，从而制造出一个一个的半导 体器件。此外，对于在蓝宝石基板的表面上层叠有氮化镓类化合物半导 体等的光学器件晶片，也通过沿着间隔道切断来分割成一个一个的发光 二极管、激光二极管等光器件，并广泛利用于电气设备中。

上述半导体晶片和光器件晶片等的沿着间隔道的切断通常是通过称 为切割机(dicer)的切削装置来进行的。该切削装置包括：保持半导体 晶片等被加工物的卡盘工作台；切削构件，其具有切削刀具，该切削刀 具用于切削保持于所述卡盘工作台上的被加工物；和向切削刀具提供加 工液的加工液供给构件，通过利用所述加工液供给构件把切削液提供给 旋转的切削刀具，来冷却切削刀具，并且在将加工液提供给被加工物的 被切削刀具切削的切削部的同时，实施切削作业。

通过切削硅或氮化镓类化合物半导体而产生的切屑会混入在如上所 述切削时提供的加工液中。由于混入有由该半导体材料构成的切屑的加 工废液会污染环境，所以要在利用废液处理装置除去切屑后进行再利用 或者废弃。(例如，参照专利文献1。)

专利文献1：日本特开2004-230527号公报

然而，由于上述废液处理装置包括：废液收纳箱，其收纳加工废液， 在加工装置的加工时所供给的加工液通过加工而生成了该加工废液；泵， 其输送收纳于所述废液收纳箱中的加工废液；废液过滤构件，其对利用 所述泵输送的加工废液进行过滤以精制成净水；净水贮存箱，其贮存利 用所述废液过滤构件精制而成的净水；净水输送泵，其输送贮存于所述 净水贮存箱中的净水；纯水生成构件，其包括离子交换构件，该离子交 换构件将利用所述净水输送泵输送的净水精制成纯水；纯水温度调整构 件，其将利用所述纯水生成构件精制而成的纯水调整至预定的温度；控 制构件，其对上述各结构构件进行控制；以及操作板，其具有向所述控 制构件输入处理信息等的输入构件、和显示由控制构件所控制的动作状 况等的显示构件，在配置该各结构构件时需要相当大的设置面积，所以 不能有效利用维护成本高的净化间。

发明内容

本发明是鉴于上述事实而完成的，其主要的技术课题在于提供一种 能够紧凑地构成装置整体的废液处理装置。

为了解决上述主要的技术课题，根据本发明，提供一种加工废液处 理装置，其包括：废液箱，其收纳加工废液，在加工装置的加工时所供 给的加工液通过加工而生成了该加工废液；废液输送泵，其输送收纳于 上述废液箱中的加工废液；废液过滤构件，其具有过滤器、和将该过滤 器以能够装卸的方式支撑的净水接收盘，上述过滤器对利用上述废液输 送泵输送的加工废液进行过滤以精制成净水；净水贮存箱，其贮存利用 上述废液过滤构件精制而成的净水；净水输送泵，其输送贮存于上述净 水贮存箱中的净水；纯水生成构件，其具有将利用上述净水输送泵输送 的净水精制成纯水的离子交换构件、和将该离子交换构件以能够装卸的 方式支撑的支撑台；纯水温度调整构件，其将利用上述纯水生成构件精 制而成的纯水调整至预定的温度；控制构件，其对上述各结构构件进行 控制；操作板，其具有向上述控制构件输入处理信息的输入构件、和显 示由上述控制构件所控制的动作状况等的显示构件；以及装置壳体，其 收纳上述各结构构件，上述加工废液处理装置的特征在于，

上述装置壳体包括底壁、上壁、左侧壁、右侧壁、后壁以及开闭前 侧开口的开闭门扇，

上述废液箱配置在上述底壁的靠上述后壁侧，上述净水贮存箱与上 述废液箱相邻地配置在上述底壁的中央部，上述纯水生成构件与上述净 水贮存箱相邻地配置在上述底壁的靠上述前侧开口侧，

废液过滤构件配置在上述纯水生成构件的上侧，

纯水温度调整构件配置在上述废液箱的上方，