[发明专利]流体喷出装置无效
申请号: | 200910006392.1 | 申请日: | 2009-02-16 |
公开(公告)号: | CN101508203A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 小池薰;高桥宣仁 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/165 | 分类号: | B41J2/165;B41J11/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 喷出 装置 | ||
1、一种流体喷出装置,其特征在于,具有:
喷嘴,其用于向介质喷出流体;
旋转滚筒,其在周面具备用于保持该介质的保持区域和形成有开口的非保持区域,且使该周面与所述喷嘴对置,同时进行旋转;
吸收滚筒,其设置于所述旋转滚筒内,并由外周部吸收为进行清洗而从所述喷嘴向所述开口喷出来的流体。
2、如权利要求1所述的流体喷出装置,其特征在于,
所述吸收滚筒以该吸收滚筒的旋转轴沿着所述旋转滚筒的旋转轴的状态而被能够旋转地支承,且
由所述外周部中在为进行清洗而从所述喷嘴向所述开口喷出流体时位于通过该开口露出的露出位置的区域接收所述流体,从而由该区域吸收所述流体。
3、如权利要求2所述的流体喷出装置,其特征在于,
所述吸收滚筒在所述旋转滚筒旋转期间以与该旋转滚筒不同的角速度进行旋转。
4、如权利要求3所述的流体喷出装置,其特征在于,
所述吸收滚筒及所述旋转滚筒的角速度的相对关系为如下关系:
在实施多次清洗的情况下,所述外周部中在为进行所述多次清洗中的一次清洗而从所述喷嘴喷出流体时位于所述露出位置的区域和为进行其他的清洗而从所述喷嘴喷出流体时位于所述露出位置的区域在所述吸收滚筒的旋转方向上不同。
5、如权利要求4所述的流体喷出装置,其特征在于,
所述旋转滚筒及所述吸收滚筒的角速度的相对关系为如下关系:
在每次清洗时,所述外周部中在为进行清洗而从所述喷嘴向所述开口喷出流体时位于所述露出位置的区域在所述吸收滚筒的旋转方向上每隔一定间隔发生变化。
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