[发明专利]流体喷出装置无效

专利信息
申请号: 200910006392.1 申请日: 2009-02-16
公开(公告)号: CN101508203A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 小池薰;高桥宣仁 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/165 分类号: B41J2/165;B41J11/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 流体 喷出 装置
【权利要求书】:

1、一种流体喷出装置,其特征在于,具有:

喷嘴,其用于向介质喷出流体;

旋转滚筒,其在周面具备用于保持该介质的保持区域和形成有开口的非保持区域,且使该周面与所述喷嘴对置,同时进行旋转;

吸收滚筒,其设置于所述旋转滚筒内,并由外周部吸收为进行清洗而从所述喷嘴向所述开口喷出来的流体。

2、如权利要求1所述的流体喷出装置,其特征在于,

所述吸收滚筒以该吸收滚筒的旋转轴沿着所述旋转滚筒的旋转轴的状态而被能够旋转地支承,且

由所述外周部中在为进行清洗而从所述喷嘴向所述开口喷出流体时位于通过该开口露出的露出位置的区域接收所述流体,从而由该区域吸收所述流体。

3、如权利要求2所述的流体喷出装置,其特征在于,

所述吸收滚筒在所述旋转滚筒旋转期间以与该旋转滚筒不同的角速度进行旋转。

4、如权利要求3所述的流体喷出装置,其特征在于,

所述吸收滚筒及所述旋转滚筒的角速度的相对关系为如下关系:

在实施多次清洗的情况下,所述外周部中在为进行所述多次清洗中的一次清洗而从所述喷嘴喷出流体时位于所述露出位置的区域和为进行其他的清洗而从所述喷嘴喷出流体时位于所述露出位置的区域在所述吸收滚筒的旋转方向上不同。

5、如权利要求4所述的流体喷出装置,其特征在于,

所述旋转滚筒及所述吸收滚筒的角速度的相对关系为如下关系:

在每次清洗时,所述外周部中在为进行清洗而从所述喷嘴向所述开口喷出流体时位于所述露出位置的区域在所述吸收滚筒的旋转方向上每隔一定间隔发生变化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910006392.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top