[发明专利]光刻设备和校准方法有效
| 申请号: | 200910003815.4 | 申请日: | 2009-02-06 |
| 公开(公告)号: | CN101504511A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
| 发明(设计)人: | M·W·M·范德维基斯特;G·安格利斯;R·G·克拉沃尔;M·R·汉姆尔斯;B·T·沃哈尔;P·霍埃克斯卓 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王新华 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光刻 设备 校准 方法 | ||
1.一种台系统校准方法,其包括步骤:
a)响应提供的预定位置的设定点信号,相对于编码器栅格移动台, 所述台的位置通过台控制器进行控制;
b)在所述移动过程中,通过传感器头与所述编码器栅格协作操作来测 量所述台的位置,所述传感器头安装在所述台上;
c)寄存表示设定点信号所提供的预定位置和由所述传感器头所测的 台的位置之间的差异的信号;和
d)通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统;
在步骤a)中,当朝向恒定速度加速所述台时增大所述台控制器的带宽, 以及设置和调整台使其速度接近移动的恒定速度时减小所述台控制器的所 述带宽。
2.如权利要求1所述的方法,其中,与感测栅格中将要被校准的不规 则性所用的速度相比,所述台控制器的带宽较低。
3.如权利要求1所述的方法,其包括对于台相对于所述编码器栅格的 至少两次不同的移动,重复a)-c),并且在d)之前,通过应用二维滤波器 过滤所述寄存的表示所述差异的信号。
4.如权利要求3所述的方法,其中,所述滤波器包括在将要校准的空 间频率范围内的空间带宽。
5.如权利要求1所述的方法,其包括,在d)之前,通过应用在将要 校准的空间频率范围内的空间带宽过滤表示所述差异的所述寄存信号。
6.如权利要求1所述的方法,其包括:
对于所述台相对于所述编码器栅格的不同位置重复所述台的移动;
对于所述不同位置平均在c)步骤寄存的所述信号,以获得平均信号曲 线;和
从所述寄存的表示所述差异的信号减去所述平均信号曲线,在所减去 后的结果的基础上进行所述校准。
7.如权利要求6所述的方法,其包括:
对比在c)步骤寄存的信号的峰值,通过对比得到可能的波动参数,在 从所述寄存的表示所述差异的信号中减去平均信号曲线之前将所述波动参 数应用到所述平均信号曲线。
8.如权利要求1所述的方法,其包括:
执行多次所述台相对于所述编码器栅格的移动,所述移动在速度、方 向、台移动的开始位置、台的长行程电机的开始位置和移动方位中至少一 方面彼此不同,每个所述移动的所述寄存信号被平均。
9.如权利要求1所述的方法,其包括:
应用迭代学习控制以学习在将要校准的空间频率范围外的空间频率范 围内的误差。
10.如权利要求1所述的方法,其包括:
在双台光刻设备中交换台之后重复所述台相对于所述编码器栅格的移 动。
11.如权利要求1所述的方法,其中,所述移动包括恒定速度移动部分 和加速移动部分,在所述加速移动部分过程中所述台的加速相对于所述台 控制器的带宽是较慢的。
12.如权利要求1所述的方法,其中对于所述台的相同移动,通过重复 a)-d)提供迭代校准。
13.如权利要求1所述的方法,其包括:
在所述台的所述移动过程中,通过加速计测量所述台的加速度;从所 测的加速度得到校正信号,并且在校准之前用所述校正信号校正表示设定 点信号与台的位置之间的差异的信号。
14.如权利要求1所述的方法,其包括:
在所述台移动过程中,通过加速计测量所述台的加速度,将加速度反 馈提供给所述台控制器。
15.如权利要求1所述的方法,其包括:
用所述台控制器的带通滤波反控制灵敏度乘以表示所述设定点信号和 所述台的位置之间的差异的信号,将相乘的结果用来校准。
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