[发明专利]光电混合基板的制造方法和由该方法获得的光电混合基板无效

专利信息
申请号: 200910001186.1 申请日: 2009-01-23
公开(公告)号: CN101493547A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 疋田贵巳;宗和范;内藤俊树;大薮恭也 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B6/13 分类号: G02B6/13;H05K3/10;G02B6/12;H05K1/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光电 混合 制造 方法 获得
【权利要求书】:

1.一种光电混合基板的制造方法,其特征在于,包括以下 工序:在由绝缘性材料构成的下敷层上形成由绝缘性材料构成 的芯用树脂层的芯用树脂层形成工序;在该芯用树脂层上形成 抗蚀剂层的抗蚀剂层形成工序;通过图案加工将上述抗蚀剂层 与芯用树脂层一同形成为规定图案,并使上述芯用树脂层形成 芯的图案加工工序;在具有形成图案的抗蚀剂层和芯的下敷层 上,以覆盖抗蚀剂层和芯的状态形成金属薄膜的金属薄膜形成 工序;将由上述金属薄膜覆盖的抗蚀剂层与金属薄膜一同去除 的抗蚀剂层去除工序;通过对形成图案且呈突出状态的芯的侧 面的金属薄膜和芯与芯之间的下敷层上的金属薄膜实施电解电 镀,用电镀层填埋上述芯和与之相邻的芯之间的槽部,将该电 镀层作为电配线的电解电镀工序;在覆盖上述芯和上述电配线 的状态下形成由绝缘性材料构成的上敷层的上敷层形成工序。

2.根据权利要求1所述的光电混合基板的制造方法,在金 属制基台上形成下敷层。

3.根据权利要求2所述的光电混合基板的制造方法,金属 制基台是不锈钢制基台。

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