[发明专利]氧化锌膜(ZnO)或氧化镁锌膜(ZnMgO)的成膜方法及氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜装置无效
申请号: | 200880131323.7 | 申请日: | 2008-09-24 |
公开(公告)号: | CN102165097A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 白幡孝洋;织田容征;吉田章男;小仓正久 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 刘多益 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化锌 zno 氧化镁 znmgo 方法 装置 | ||
1.一种氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,包括:
(A)使含有锌或者锌和镁的溶液(4、8)雾化的工序;
(B)对基板(2)加热的工序;
(C)向所述工序(B)中的所述基板的第一主面上供给所述工序(A)中雾化好的所述溶液和臭氧的工序。
2.一种氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,包括:
(V)使含有锌或者锌和镁的溶液(4、8)雾化的工序;
(W)向基板(2)的第一主面上供给所述工序(V)中雾化好的所述溶液及氧或臭氧的工序;
(X)对所述氧或所述臭氧照射紫外光的工序。
3.一种氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,包括:
(V)使含有锌或者锌和镁的溶液(4、8)雾化的工序;
(W)向基板(2)的第一主面上供给所述工序(V)中雾化好的所述溶液及氧或臭氧的工序;
(X)将所述氧或所述臭氧等离子体化的工序。
4.如权利要求2或3所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(W)是向被加热的所述基板供给所述氧或所述臭氧的工序。
5.如权利要求1~3中的任一项所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述溶液中包含含有锌和镁中的任意元素的化合物;
所述化合物是醇盐化合物、β-二酮化合物、羧酸盐化合物、卤素化合物、烷基化合物和环戊二烯基化合物中的至少任一种。
6.如权利要求1~3中的任一项所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述溶液中至少包含硼、氮、氟、铝、磷、氯、镓、砷、铌、铟和锑中的任一种。
7.如权利要求1~3中的任一项所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(A)或(V)是使2种以上的所述溶液分别雾化的工序;
所述工序(C)或(W)是同时或依次或交替地供给不同的所述溶液的工序。
8.如权利要求1所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(C)是同时或交替地供给所述溶液和所述臭氧的工序。
9.如权利要求2或3所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(W)是同时或交替地供给所述溶液及所述氧或所述臭氧的工序。
10.如权利要求1所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(C)是经过不同的通路(L1、L2)来供给所述溶液和所述臭氧的工序。
11.如权利要求2或3所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(W)是经过不同的通路(L1、L2)来供给所述溶液及所述氧或所述臭氧的工序。
12.如权利要求1所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(C)是向配置在大气压下的所述基板供给所述溶液和所述臭氧的工序。
13.如权利要求2或3所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(W)是向配置在大气压下的所述基板供给所述溶液及所述氧或所述臭氧的工序。
14.如权利要求1所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(C)是向配置在减压环境下的所述基板供给所述溶液和所述臭氧的工序。
15.如权利要求2或3所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法,其特征在于,
所述工序(W)是向配置在减压环境下的所述基板供给所述溶液及所述氧或所述臭氧的工序。
16.一种氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜装置,其特征在于,
用于实施权利要求1~权利要求15中的任一项所述的氧化锌膜或氧化镁锌膜的成膜方法。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的