[发明专利]极紫外辐射源和用于产生极紫外辐射的方法无效

专利信息
申请号: 200880122902.5 申请日: 2008-12-19
公开(公告)号: CN101911838A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: Y·V·斯戴尼克夫;V·Y·班尼恩;K·N·克什烈夫;O·W·V·弗吉恩斯;V·M·克里夫特逊 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 紫外 辐射源 用于 产生 辐射 方法
【权利要求书】:

1.一种辐射源,所述辐射源被构造且被布置以产生极紫外辐射,所述辐射源包括:

腔;

第一电极,所述第一电极被至少部分地包含在所述腔中;

第二电极,所述第二电极被至少部分地包含在所述腔中;

供给装置,所述供给装置被构造且被布置以提供放电气体至所述腔,所述第一电极和所述第二电极被配置以在所述放电气体中产生放电以形成等离子体,以便产生所述极紫外辐射;和

气体供给装置,所述气体供给装置被构造且被布置以在靠近所述放电的位置处提供分压在约1Pa和约10Pa之间的气体,所述气体被从由氢气、氦气以及氢气和氦气的混合物组成的组中选出。

2.根据权利要求1所述的辐射源,还包括压力传感器和压力控制装置,所述压力控制装置被配置以控制所述气体供给装置,以便保持预定的气体压力。

3.根据权利要求1或2所述的辐射源,其中所述分压位于距离所述放电的位置约5cm以内的位置处。

4.根据权利要求3所述的辐射源,其中所述分压位于距离所述放电的位置约1cm以内的位置处。

5.一种光刻设备,所述光刻设备包括:

辐射源,所述辐射源被构造和被布置以产生极紫外辐射,所述辐射源包括:

腔;

第一电极,所述第一电极被至少部分地包含在所述腔中;

第二电极,所述第二电极被至少部分地包含在所述腔中;

供给装置,所述供给装置被构造且被布置以提供放电气体至所述腔,所述第一电极和所述第二电极被配置以在所述放电气体中产生放电以形成等离子体,以便产生所述极紫外辐射;和

气体供给装置,所述气体供给装置被构造且被布置以在靠近所述放电的位置处提供分压在约1Pa和约10Pa之间的气体,所述气体被从由氢气、氦气以及氢气和氦气的混合物组成的组中选出。

6.根据权利要求5所述的光刻设备,还包括:

支撑件,所述支撑件被构造且被布置以支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够在所述辐射束的横截面中将图案赋予辐射束,以形成图案化的辐射束;

衬底台,所述衬底台被构造且被布置以保持衬底;

照射系统,所述照射系统被配置以将所述极紫外辐射转换成所述辐射束,和引导所述辐射束至所述图案形成装置;和

投影系统,所述投影系统被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上。

7.一种用于产生极紫外辐射的方法,所述方法包括步骤:

提供放电气体至包括第一电极和第二电极的腔;

施加电压至所述第一电极和所述第二电极,以在所述放电气体中产生放电,所述放电形成发射极紫外辐射的等离子体;和

在靠近放电的位置处保持气体处于在约1.5Pa和约10Pa之间的分压,所述气体被从由氢气、氦气以及氢气和氦气的混合物组成的组中选出。

8.根据权利要求7所述的方法,其中在所述位置被保持的所述分压在约2Pa和约9Pa之间。

9.根据权利要求8所述的方法,其中在所述位置被保持的所述分压在约3.5Pa和约7Pa之间。

10.根据权利要求9所述的方法,其中在所述位置被保持的所述分压在约4Pa和约6Pa之间。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的方法,其中氢气被供给至所述腔,用以保持所述氢气压力处于所述压力范围内。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的方法,其中氢气被从所述腔中抽空,用于保持所述氢气压力处于所述压力范围内。

13.根据权利要求7至12中任一项所述的方法,其中所述分压被设置在距离所述放电的位置约5cm以内的位置处。

14.根据权利要求13所述的方法,其中所述分压被设置在距离所述放电的位置约1cm以内的位置处。

15.一种器件制造方法,所述方法包括步骤:

提供放电气体至包括第一电极和第二电极的腔;

施加电压至所述第一电极和所述第二电极,以在所述放电气体中产生放电,所述放电形成发射极紫外辐射的等离子体;

在靠近所述放电的位置保持气体处于在约1.5Pa和约10Pa之间的分压下,所述气体被从由氢气、氦气以及氢气和氦气的混合物组成的组中选出;

将所述极紫外辐射转换成辐射束;

图案化所述辐射束;和

将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

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